基于等离子活化硅硅键合的微模具制备工艺研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-21页 |
·课题来源 | 第8页 |
·硅硅直接键合技术的研究背景 | 第8-12页 |
·低温晶圆直接键合 | 第12-14页 |
·直接键合技术的研究现状及应用 | 第14-17页 |
·直接键合制备微模具的研究背景 | 第17-19页 |
·课题意义、研究内容及论文纲要 | 第19-21页 |
2 等离子活化处理工艺研究 | 第21-39页 |
·低温键合表面预处理方案 | 第21-28页 |
·等离子表面处理工艺 | 第28-31页 |
·对退火空洞的研究 | 第31-37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
3 硅微模具制备工艺研究 | 第39-51页 |
·制备硅微模具工艺流程与难点 | 第39-41页 |
·相关难点解决方案研究 | 第41-44页 |
·硅微模具制备实验与讨论 | 第44-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
4 键合质量检测 | 第51-60页 |
·键合强度的测试 | 第51-54页 |
·键合片界面缺陷检测 | 第54-57页 |
·图形处理计算键合率 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
5 总结与展望 | 第60-61页 |
·全文总结 | 第60页 |
·展望 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
附录 1 攻读硕士学位期间发表论文和发明专利 | 第67-68页 |
附录 2 相关 Matlab 程序代码 | 第68-69页 |