磁控溅射制备介质薄膜的激光损伤特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-11页 |
| ·激光薄膜材料 | 第11-13页 |
| ·TiO_2薄膜 | 第11页 |
| ·Al_2O_3薄膜 | 第11-12页 |
| ·SiO_2薄膜 | 第12页 |
| ·Ta_2O_5薄膜 | 第12页 |
| ·HfO_2薄膜 | 第12-13页 |
| ·本文的研究内容 | 第13-14页 |
| 2 基本原理及测试技术 | 第14-23页 |
| ·磁控溅射技术 | 第14-17页 |
| ·磁控溅射原理 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射设备 | 第16-17页 |
| ·薄膜制备流程 | 第17页 |
| ·椭偏仪 | 第17-19页 |
| ·分光光度计 | 第19页 |
| ·薄膜激光损伤测试技术 | 第19-22页 |
| ·损伤阈值测试方法 | 第19-21页 |
| ·损伤阈值确定方法 | 第21页 |
| ·激光损伤特性测试平台 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 3 TiO_2薄膜工艺参数优化 | 第23-34页 |
| ·实验方法 | 第23-24页 |
| ·薄膜性能测试 | 第24-28页 |
| ·椭偏仪性能测试 | 第24-26页 |
| ·分光光度计性能测试 | 第26-28页 |
| ·实验结果分析 | 第28-31页 |
| ·椭偏仪结果分析 | 第28-29页 |
| ·分光光度计结果分析 | 第29-31页 |
| ·最佳镀膜方案 | 第31-33页 |
| ·样品制备 | 第31页 |
| ·样品性能分析 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 4 Al_2O_3薄膜工艺参数优化 | 第34-39页 |
| ·工艺参数选择 | 第34-35页 |
| ·工艺因素分析 | 第34-35页 |
| ·工艺参数选择 | 第35页 |
| ·样品参数 | 第35-36页 |
| ·样品测试 | 第36-38页 |
| ·透射率测试 | 第36-37页 |
| ·折射率和消光系数测试 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 5 减反膜制备及激光损伤测试 | 第39-46页 |
| ·减反膜设计 | 第39页 |
| ·减反膜制备 | 第39-42页 |
| ·激光损伤测试 | 第42-43页 |
| ·损伤阈值 | 第42-43页 |
| ·损伤形貌 | 第43页 |
| ·退火处理 | 第43-45页 |
| ·退火对激光损伤的影响 | 第43-44页 |
| ·退火对光学特性的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 6 结论 | 第46-48页 |
| ·结论 | 第46页 |
| ·展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
