| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-10页 |
| 前言 | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-33页 |
| ·天然气中脱硫的方法 | 第12-15页 |
| ·湿法脱硫 | 第12-13页 |
| ·化学吸收法 | 第12页 |
| ·物理吸收法 | 第12-13页 |
| ·混合吸收法 | 第13页 |
| ·湿式催化氧化法 | 第13页 |
| ·干法脱硫 | 第13-15页 |
| ·活性炭法 | 第14页 |
| ·氧化锌法 | 第14页 |
| ·氧化铁法 | 第14页 |
| ·分子筛法 | 第14-15页 |
| ·膜分离法 | 第15页 |
| ·天然气中脱除甲硫醚研究进展 | 第15-19页 |
| ·天然气中精脱除甲硫醚的方法 | 第15-17页 |
| ·加氢脱硫 | 第16页 |
| ·选择性催化氧化脱硫 | 第16页 |
| ·吸附脱硫 | 第16-17页 |
| ·脱除甲硫醚吸附剂概述 | 第17-19页 |
| ·活性炭 | 第17-18页 |
| ·分子筛 | 第18-19页 |
| ·有序介孔二氧化硅材料研究进展 | 第19-32页 |
| ·有序介孔二氧化硅材料的形成机理 | 第20-21页 |
| ·液晶模板机理 | 第20-21页 |
| ·棒状自组装机理 | 第21页 |
| ·层状折叠机理 | 第21页 |
| ·协同作用机理 | 第21页 |
| ·有序介孔二氧化硅材料的制备方法 | 第21-23页 |
| ·阳离子表面活性剂模板法 | 第22页 |
| ·阴离子表面活性剂模板法 | 第22-23页 |
| ·非离子表面活性剂模板法 | 第23页 |
| ·有序介孔二氧化硅材料功能化修饰 | 第23-25页 |
| ·嫁接法 | 第24页 |
| ·涂层法 | 第24-25页 |
| ·镶嵌法 | 第25页 |
| ·有序介孔二氧化硅材料表征 | 第25-32页 |
| ·X-射线衍射(XRD)分析 | 第25-27页 |
| ·低温氮气吸附-脱附分析 | 第27-30页 |
| ·氮气吸附-脱附曲线 | 第27-28页 |
| ·BET方法计算比表面积 | 第28-29页 |
| ·BJH方法计算孔径和孔径分布 | 第29-30页 |
| ·高倍透射电镜(HRTEM)分析 | 第30-31页 |
| ·热重法(TG) 分析 | 第31页 |
| ·电感耦合等离子发射光谱 (ICP-AES)分析 | 第31-32页 |
| ·本课题的研究思路、内容及意义 | 第32-33页 |
| 第二章 阴离子模板介孔二氧化硅材料（AMS）的合成与表征 | 第33-42页 |
| ·实验部分 | 第33-37页 |
| ·实验药品 | 第33-34页 |
| ·实验仪器与设备 | 第34页 |
| ·负载氨基的阴离子模板介孔二氧化硅(AMS-2)材料的合成 | 第34-36页 |
| ·CnGluA阴离子表面活性剂的制备 | 第35页 |
| ·AMS-2 材料的制备 | 第35-36页 |
| ·AMS-2 材料的表征方法 | 第36-37页 |
| ·XRD表征 | 第36页 |
| ·氮气吸附-脱附曲线表征 | 第36-37页 |
| ·HRTEM表征 | 第37页 |
| ·TGA表征 | 第37页 |
| ·表征结果讨论 | 第37-41页 |
| ·XRD表征 | 第37-38页 |
| ·低温氮气吸附-脱附表征 | 第38-39页 |
| ·HRTEM表征 | 第39-40页 |
| ·TGA表征 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第三章 金属离子负载AMS-2 材料的合成与表征 | 第42-49页 |
| ·M-AMS-2 材料的合成与表征 | 第42-49页 |
| ·实验部分 | 第42-45页 |
| ·实验药品 | 第42页 |
| ·实验仪器 | 第42-43页 |
| ·金属离子负载AMS-2 材料的合成 | 第43-44页 |
| ·铜离子负载AMS-2 材料的合成 | 第44页 |
| ·银离子负载AMS-2 材料的合成 | 第44页 |
| ·M-AMS-2 材料的表征方法 | 第44-45页 |
| ·XRD表征 | 第44-45页 |
| ·氮气吸附-脱附曲线表征 | 第45页 |
| ·HRTEM表征 | 第45页 |
| ·ICP-AES表征 | 第45页 |
| ·表征与结果讨论 | 第45-48页 |
| ·XRD表征 | 第45-46页 |
| ·氮气吸附-脱附表征 | 第46-47页 |
| ·HRTEM表征 | 第47-48页 |
| ·ICP-AES表征 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第四章 负载金属离子介孔二氧化硅材料脱除甲硫醚性能研究 | 第49-66页 |
| ·甲硫醚/氮气(DMS/N2)混合气配制 | 第49-55页 |
| ·配气步骤 | 第49-51页 |
| ·配气前期准备 | 第49-50页 |
| ·配气操作步骤 | 第50-51页 |
| ·甲硫醚/氮气混合气浓度色谱分析 | 第51-55页 |
| ·实验原理 | 第51页 |
| ·仪器结构 | 第51-53页 |
| ·混合气中甲硫醚组分的定量分析 | 第53-54页 |
| ·标准样品工作曲线绘制及样品分析 | 第54-55页 |
| ·AMS-2 及M-AMS-2 材料吸附脱除甲硫醚性能测试 | 第55-58页 |
| ·甲硫醚穿透试验 | 第55-56页 |
| ·甲硫醚吸附穿透曲线及吸附容量计算 | 第56-58页 |
| ·M-AMS-2 材料吸附甲硫醚性能测试 | 第58-65页 |
| ·阴离子表面活性剂对吸附量的影响 | 第58-59页 |
| ·不同金属离子负载对吸附量的影响 | 第59页 |
| ·同种金属离子的不同溶液对吸附量的影响 | 第59-60页 |
| ·负载溶液浓度对吸附量的影响 | 第60-61页 |
| ·金属离子负载量对吸附量的影响 | 第61-62页 |
| ·负载反应时间对吸附量的影响 | 第62-63页 |
| ·煅烧温度对吸附量的影响 | 第63-64页 |
| ·再生条件对吸附效果的影响 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-76页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
