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半导体扩散工艺控制及数据处理系统的研制

摘要第1-8页
Abstract第8-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·半导体专用设备制造业的现状第10-11页
     ·我国半导体专用设备制造业的现状第10页
     ·高温氧化扩散炉的发展状况第10-11页
   ·扩散炉的基本结构第11-12页
   ·本课题的技术要求及主要研究内容第12-15页
     ·课题主要研究内容第12-13页
     ·课题主要技术要求第13-15页
第二章 扩散/氧化系统总体方案设计第15-21页
   ·扩散/氧化设备第15-16页
   ·扩散/氧化工艺第16-19页
   ·扩散/氧化系统硬件设计方案第19页
   ·扩散/氧化系统软件设计方案第19-20页
   ·本章小结第20-21页
第三章 扩散/氧化下位机系统设计第21-27页
   ·JC-A 温度检测模块第22页
   ·控制系统输入/输出单元第22-23页
   ·触摸屏操作界面的设计第23-26页
   ·本章小结第26-27页
第四章 MSComm 控件应用及通信协议制定第27-40页
   ·MSComm 通信控件的安装第27-29页
     ·手动安装第27-28页
     ·自动安装第28-29页
   ·MSComm 的属性及事件第29-31页
   ·MSComm 串口通信的实现第31-33页
   ·通讯协议第33-39页
     ·从控制模块读数据第34-37页
     ·向控制模块写数据第37-38页
     ·状态控制命令第38-39页
   ·本章小结第39-40页
第五章 上位机数据处理系统设计第40-53页
   ·系统开发工具的选择第40-42页
     ·系统性能需求第40页
     ·开发语言的选择第40-41页
     ·数据库的选择第41-42页
   ·数据库的开发与设计第42-45页
     ·数据库设计第42-44页
     ·数据库的连接第44-45页
   ·上位机数据处理软件重要功能模块第45-51页
     ·数据处理模块第45-47页
     ·数据显示模块第47-50页
     ·数据保存模块第50页
     ·历史数据模块第50-51页
   ·上位机数据处理软件的安装第51-52页
   ·本章小结第52-53页
第六章 安装调试及结果分析第53-57页
   ·实验室调试过程第53-54页
   ·工作现场布置第54-55页
   ·现场安装要注意的问题第55-56页
   ·本章小结第56-57页
结论第57-58页
致谢第58-59页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第59-60页
参考文献第60-62页
附录第62-67页
 附图 1 控制系统—电源、RS-232、电磁阀接线图第62-63页
 附图 2 控制系统—输入模块接线图第63-64页
 附图 3 控制系统—4AD/2DA 接线图第64-65页
 附图 4 控制系统—输出模块接线图第65-66页
 附图 5 控制系统—JMC-A6 输入模块接线图第66-67页
 附图 6 控制系统—JC-A10 输入模块接线图第67页

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