高纯金属钆的制备工艺研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
引言 | 第13-14页 |
1 绪论 | 第14-21页 |
·课题背景 | 第14页 |
·高纯稀土金属的制备 | 第14-17页 |
·适于提纯用稀土金属的制备方法 | 第14-15页 |
·稀土金属中杂质的类型 | 第15页 |
·提纯稀土金属的方法 | 第15-17页 |
·高纯稀土金属制备现状 | 第17-19页 |
·国外高纯稀土金属制备现状 | 第17-18页 |
·我国高纯稀土金属制备现状 | 第18-19页 |
·课题选择依据 | 第19-21页 |
·高纯金属Gd的应用 | 第19-20页 |
·选题目的和意义 | 第20-21页 |
2 技术路线选择和主要研究内容 | 第21-24页 |
·课题技术路线 | 第21-22页 |
·主要研究内容 | 第22-23页 |
·制备高纯GdF_3 | 第22页 |
·制备金属Gd | 第22页 |
·提纯金属Gd | 第22-23页 |
·分析表征方法 | 第23-24页 |
·气体杂质分析 | 第23页 |
·稀土金属杂质及非稀土金属杂质分析 | 第23页 |
·氟化产物相分析 | 第23页 |
·氟化反应同步热分析 | 第23页 |
·高纯金属Gd金相分析 | 第23-24页 |
3 高纯GdF_3的制备 | 第24-36页 |
·NH_4HF_2氟化法制备氟化钆的研究 | 第24-29页 |
·实验原理分析 | 第24-25页 |
·试剂与设备 | 第25页 |
·实验研究方法 | 第25-26页 |
·NH_4HF_2用量对氟化效果的影响 | 第26-27页 |
·氟化温度对氟化效果的影响 | 第27-29页 |
·HF氟化法制备GdF_3的研究 | 第29-32页 |
·实验原理分析 | 第29页 |
·试剂与设备 | 第29-30页 |
·实验研究方法 | 第30页 |
·二次氟化时间对氟化效果的影响 | 第30-31页 |
·多次反应对氟化效果的影响 | 第31-32页 |
·HF气氛下熔融GdF_3-LiF除氧 | 第32-34页 |
·实验原理分析 | 第32页 |
·实验研究方法 | 第32-33页 |
·试剂与设备 | 第33页 |
·结果与讨论 | 第33-34页 |
·制备高纯GdF_3 | 第34-35页 |
·小节 | 第35-36页 |
4 金属Gd的制备 | 第36-42页 |
·还原过程分析 | 第36-37页 |
·还原反应分析 | 第36-37页 |
·杂质行为分析 | 第37页 |
·金属Ca的提纯 | 第37-39页 |
·提纯设备 | 第37-38页 |
·实验研究方法 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-39页 |
·金属Ca还原制备金属Gd | 第39-40页 |
·试剂及设备 | 第39页 |
·实验研究方法 | 第39页 |
·结果与讨论 | 第39-40页 |
·金属Li还原制备金属Gd | 第40-41页 |
·试剂及设备 | 第40页 |
·实验研究方法 | 第40页 |
·结果及讨论 | 第40-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
5 真空熔融及真空蒸馏 | 第42-47页 |
·金属Gd的真空熔融提纯 | 第42-44页 |
·实验原理分析 | 第42页 |
·试剂及设备 | 第42页 |
·实验研究方法 | 第42页 |
·重熔温度对杂质含量的影响 | 第42-43页 |
·重熔时间对杂质含量的影响 | 第43-44页 |
·金属Gd的真空蒸馏提纯 | 第44-46页 |
·实验原理分析 | 第44-45页 |
·试剂及设备 | 第45页 |
·实验研究方法 | 第45页 |
·结果及讨论 | 第45-46页 |
·小结 | 第46-47页 |
6 固态电迁移提纯 | 第47-62页 |
·提纯理论分析 | 第47-49页 |
·原料与设备 | 第49-50页 |
·实验研究方法 | 第50页 |
·恒稳电流0.88T_m下固态电迁移 | 第50-55页 |
·电流密度与料棒温度分布 | 第50-51页 |
·实验过程 | 第51页 |
·结果及讨论 | 第51-55页 |
·恒稳电流0.95T_m下固态电迁移 | 第55-58页 |
·实验原理分析 | 第55页 |
·实验过程 | 第55页 |
·结果及讨论 | 第55-58页 |
·脉冲电流下的固态电迁移 | 第58-59页 |
·实验原理分析 | 第58页 |
·实验过程 | 第58页 |
·结果与讨论 | 第58-59页 |
·固态电迁移后金属钆的金相分析 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
结论 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |