铝表面硅烷膜制备工艺优化及膜层性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-22页 |
| ·铝金属用途及腐蚀现状 | 第13-14页 |
| ·铝的性质及用途 | 第13页 |
| ·铝的腐蚀类型 | 第13-14页 |
| ·常规铝表面处理技术 | 第14-15页 |
| ·阳极氧化处理 | 第14页 |
| ·铬酸盐钝化处理 | 第14页 |
| ·磷酸盐转化膜处理 | 第14页 |
| ·稀土转化膜处理 | 第14-15页 |
| ·铝表面硅烷化处理技术 | 第15-20页 |
| ·硅烷偶联剂简介 | 第15-16页 |
| ·硅烷化处理技术简介 | 第16-17页 |
| ·硅烷膜防腐蚀机理 | 第17页 |
| ·铝表面硅烷化处理过程 | 第17-19页 |
| ·硅烷化处理技术研究进展 | 第19-20页 |
| ·本课题研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验内容与方法 | 第22-27页 |
| ·实验材料及性状 | 第22-23页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·主要材料介绍 | 第22-23页 |
| ·实验仪器 | 第23页 |
| ·主要表征方法 | 第23-27页 |
| ·电化学阻抗谱测量 | 第23-24页 |
| ·动电位扫描测定极化曲线 | 第24-25页 |
| ·扫描电镜及能谱分析 | 第25页 |
| ·正交试验法 | 第25-26页 |
| ·拉开法测定附着力 | 第26-27页 |
| 第3章 水基硅醇体系中硅烷膜制备工艺优化 | 第27-39页 |
| ·前言 | 第27页 |
| ·实验 | 第27-29页 |
| ·电极的预处理 | 第27页 |
| ·水基硅醇体系制备 | 第27-28页 |
| ·硅烷膜固化工艺优化 | 第28页 |
| ·硅烷膜成膜工艺优化 | 第28页 |
| ·硅烷膜电化学分析 | 第28页 |
| ·硅烷膜微观形貌及元素组成分析 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·固化工艺优化 | 第29-32页 |
| ·成膜工艺优化 | 第32-35页 |
| ·硅烷膜微观形貌及元素组成分析 | 第35-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第4章 硅烷-铈盐杂化膜的制备及性能表征 | 第39-50页 |
| ·前言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·水基硅醇溶液制备 | 第39页 |
| ·铈盐溶液制备 | 第39页 |
| ·试样制备 | 第39-40页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜电化学分析 | 第40页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜微观形貌及元素组成分析 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-49页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜正交试验结果 | 第40-43页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜耐蚀性能对比分析 | 第43-45页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜耐久性分析 | 第45-47页 |
| ·硅烷-铈盐杂化膜微观形貌及元素组成分析 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第5章 功能性双硅烷膜的制备及性能表征 | 第50-60页 |
| ·前言 | 第50-51页 |
| ·实验 | 第51-52页 |
| ·水基硅醇体系制备 | 第51页 |
| ·双硅烷膜试样制备 | 第51页 |
| ·双硅烷膜/涂层试样制备 | 第51页 |
| ·双硅烷膜的电化学分析 | 第51页 |
| ·拉开法测定涂层附着力 | 第51-52页 |
| ·双硅烷膜微观形貌及元素组成分析 | 第52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-58页 |
| ·双硅烷膜的电化学分析 | 第52-54页 |
| ·双硅烷膜/涂层试样的耐久性分析 | 第54-56页 |
| ·涂层附着力测定结果 | 第56-57页 |
| ·双硅烷膜微观形貌及元素组成分析 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
