| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·场发射概述 | 第11-12页 |
| ·场电子发射研究及其应用进展 | 第12-14页 |
| ·碳纳米管场发射阴极的制备工艺 | 第14-17页 |
| ·直接生长法 | 第14-15页 |
| ·光刻法 | 第15页 |
| ·丝网印刷法 | 第15-16页 |
| ·涂敷法 | 第16页 |
| ·液相沉积法 | 第16页 |
| ·电泳法 | 第16-17页 |
| ·本论文的主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 碳纳米管场发射基本理论及模拟 | 第19-33页 |
| ·场致发射原理 | 第19-22页 |
| ·表面势垒与电子发射 | 第19-20页 |
| ·金属场致发射 | 第20-22页 |
| ·碳纳米管的场发射机理 | 第22-26页 |
| ·局域电场增强机理 | 第23-24页 |
| ·缺陷发射机理 | 第24页 |
| ·管帽局域态能带发射机理 | 第24-25页 |
| ·吸附物谐振隧穿发射机理 | 第25-26页 |
| ·碳纳米管场发射性能的影响因素 | 第26-27页 |
| ·改善碳纳米管场发射性能方法 | 第27-28页 |
| ·场发射阴极的技术指标 | 第28-29页 |
| ·栅极与阳极对栅极电子发射作用 | 第29-33页 |
| 第三章 碳纳米管阴极结构、测试与预处理及平栅极阴极制备 | 第33-50页 |
| ·碳纳米管阴极结构及工艺 | 第33-36页 |
| ·平栅极结构阴极 | 第33-34页 |
| ·碳纳米管阴极制备工艺 | 第34-36页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射系统和预处理 | 第36-39页 |
| ·场发射测试系统 | 第36-37页 |
| ·平栅极阴极夹具预处理 | 第37-39页 |
| ·基片清洗处理 | 第39-40页 |
| ·表面杂质类型 | 第39页 |
| ·基片清洗工艺 | 第39-40页 |
| ·光刻工艺 | 第40-41页 |
| ·光刻工艺概述 | 第40-41页 |
| ·刻蚀工艺概述 | 第41页 |
| ·实验 | 第41-44页 |
| ·仪器和试剂 | 第41-42页 |
| ·光刻工艺流程 | 第42-44页 |
| ·实验结果与分析 | 第44-50页 |
| ·光刻实验结果与分析 | 第44-47页 |
| ·刻蚀实验结果与分析 | 第47-50页 |
| 第四章 电泳沉积碳纳米管薄膜及场发射性能研究 | 第50-64页 |
| ·电泳沉积原理简述 | 第50-51页 |
| ·实验 | 第51-55页 |
| ·电泳装置的设计 | 第51-52页 |
| ·电泳制备碳纳米管阴极薄膜 | 第52-54页 |
| ·电泳沉积工艺条件 | 第54页 |
| ·样品的形貌结构及场发射测试环境 | 第54-55页 |
| ·碳纳米管薄膜表面形貌及场发射性能 | 第55-64页 |
| ·电解质浓度改变对场发射性能的影响 | 第55-57页 |
| ·碳纳米管浓度改变对场发射性能的影响 | 第57-58页 |
| ·电泳电压改变对场发射性能的影响 | 第58-61页 |
| ·电泳时间改变对场发射性能的影响 | 第61-64页 |
| 第五章 金属镀覆对电泳沉积碳纳米管薄膜的改性研究 | 第64-83页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·电镀原理简述 | 第64-66页 |
| ·实验 | 第66-68页 |
| ·电镀装置的设计 | 第66页 |
| ·电镀镀覆银纳米颗粒 | 第66-67页 |
| ·电镀镀覆工艺条件 | 第67-68页 |
| ·样品的形貌结构及场发射测试环境 | 第68页 |
| ·镀覆金属层表面形貌及场发射性能 | 第68-79页 |
| ·硝酸银浓度对场发射性能的影响 | 第68-72页 |
| ·电镀时间对场发射性能的影响 | 第72-75页 |
| ·电镀电压对场发射性能的影响 | 第75-79页 |
| ·镀覆银结晶颗粒影响碳纳米管场发射性能的分析 | 第79-80页 |
| ·退火对镀覆金属碳纳米管薄膜场发射性能影响 | 第80-82页 |
| ·平栅极结构对场发射性能影响 | 第82-83页 |
| 第六章 结论 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 硕士期间取得成果 | 第90-91页 |