实时动态数字光刻技术制作微透镜阵列的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| ·微光学器件的制作方法 | 第10-13页 |
| ·直写技术 | 第10-11页 |
| ·二元套刻技术 | 第11页 |
| ·灰度掩模技术 | 第11-12页 |
| ·数字无掩模光刻技术 | 第12-13页 |
| ·国内外发展现状 | 第13-14页 |
| ·本论文主要研究工作及内容安排 | 第14-16页 |
| ·主要研究工作 | 第14-15页 |
| ·论文具体章节安排 | 第15-16页 |
| 第2章 基于DMD的数字光刻制作系统 | 第16-24页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·DMD的基本结构和工作原理 | 第16-18页 |
| ·DMD的基本结构 | 第16-17页 |
| ·DMD的工作原理 | 第17-18页 |
| ·数字光刻系统的硬件组成 | 第18-21页 |
| ·用于实验的数字光刻系统 | 第18-21页 |
| ·本实验设备的优化 | 第21页 |
| ·系统工作原理和DMD成像原理 | 第21-24页 |
| ·系统工作原理 | 第21-22页 |
| ·DMD成像原理 | 第22-24页 |
| 第3章 实时动态数字光刻技术 | 第24-32页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·实时动态数字光刻技术 | 第24-25页 |
| ·实时动态数字光刻技术提出的必要性 | 第24-25页 |
| ·实时动态数字光刻技术基本原理 | 第25-32页 |
| ·数字旋转掩模光刻技术 | 第25-27页 |
| ·数字移动掩模光刻技术 | 第27-32页 |
| 第四章 微透镜阵列的设计 | 第32-47页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·衍射光学元件的设计 | 第32-40页 |
| ·衍射微光学元件基本理论[39] | 第32-34页 |
| ·衍射微光学元件设计方法 | 第34页 |
| ·衍射微透镜阵列的设计 | 第34-40页 |
| ·折射微透镜的设计 | 第40-43页 |
| ·折射微透镜几何光学设计理论[44] | 第40-41页 |
| ·数字光刻技术中非球面柱透镜阵列设计 | 第41-43页 |
| ·数字光刻软件设计系统 | 第43-47页 |
| ·计算机控制与辅助设计软件 | 第43-44页 |
| ·微透镜阵列掩模图形的绘制 | 第44-45页 |
| ·微透镜阵列掩模图形的动态显示 | 第45-47页 |
| 第五章 实验制作 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验步骤及其工艺 | 第47-52页 |
| ·硅片表面预处理 | 第48-49页 |
| ·涂胶 | 第49-50页 |
| ·前烘 | 第50页 |
| ·曝光 | 第50-51页 |
| ·后烘 | 第51页 |
| ·显影 | 第51-52页 |
| ·实验制作 | 第52-55页 |
| ·本实验主要参数 | 第52页 |
| ·菲涅尔衍射微透镜阵列的实验结果 | 第52-54页 |
| ·非球面柱透镜阵列的实验结果 | 第54-55页 |
| ·本实验主要制作工艺讨论 | 第55-59页 |
| ·曝光时间误差 | 第56-57页 |
| ·显影误差 | 第57-59页 |
| 第六章 结论和展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第65-66页 |
