| 中文摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-16页 |
| 第一章 概述 | 第16-33页 |
| ·稀磁半导体材料及其研究概述 | 第16-24页 |
| ·ZnO的结构和特性 | 第24-30页 |
| ·本文的选题依据和研究意义 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第二章 ZnO 基稀磁半导体薄膜的制备技术 | 第33-43页 |
| ·溅射法 | 第34-37页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第37页 |
| ·化学气相沉积 | 第37-39页 |
| ·金属有机化学气相沉积（MOCVD） | 第39-40页 |
| ·离子注入法 | 第40-41页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 Co 掺杂的 ZnO 薄膜的 PLD 制备及表征手段 | 第43-59页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)概述 | 第43-50页 |
| ·Co掺杂的 ZnO 薄膜的 PLD 制备 | 第50-52页 |
| ·表征手段及原理 | 第52-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 生长温度对 Zn_(1-x)Co_xO 薄膜性质影响的研究 | 第59-79页 |
| ·实验方法 | 第59页 |
| ·实验结果和讨论 | 第59-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 氧压对 Zn_(1-x)Co_xO 薄膜性质影响的研究 | 第79-99页 |
| ·实验方法 | 第79页 |
| ·实验结果和讨论 | 第79-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 第六章 激光能量对 Zn_(1-x)Co_xO 薄膜性质影响的研究 | 第99-119页 |
| ·实验方法 | 第99页 |
| ·实验结果和讨论 | 第99-118页 |
| ·本章小结 | 第118-119页 |
| 第七章 Al2O3衬底上不同 Co 浓度的 Zn_(1-x)Co_xO 薄膜的制备和性质研究 | 第119-134页 |
| ·实验方法 | 第119页 |
| ·实验结果和讨论 | 第119-132页 |
| ·本章小结 | 第132-134页 |
| 第八章 结论 | 第134-138页 |
| ·本论文的主要研究结果 | 第134-136页 |
| ·对今后研究工作的建议 | 第136-138页 |
| 参考文献 | 第138-143页 |
| 攻读博士学位期间完成的论文 | 第143-144页 |
| 致谢 | 第144页 |
