快速退火对AZO透明导电薄膜特性的影响
| 中文摘要 | 第1-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 符号说明 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-25页 |
| ·概述 | 第15-16页 |
| ·透明导电薄膜的种类及其基本特性 | 第16-18页 |
| ·金属透明导电薄膜 | 第16-17页 |
| ·氧化物透明导电薄膜 | 第17页 |
| ·有机高分子化合物透明导电薄膜 | 第17-18页 |
| ·AZO透明导电薄膜的研究状况 | 第18页 |
| ·AZO的特性以及制备方法 | 第18-22页 |
| ·AZO薄膜的特性 | 第18-19页 |
| ·AZO薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第19-20页 |
| ·溅射镀膜 | 第20页 |
| ·离子束成膜技术 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22页 |
| ·喷涂热分解法 | 第22页 |
| ·薄膜后处理研究现状 | 第22-24页 |
| ·研究课题的选取 | 第24-25页 |
| 第二章 样品的制备及测试 | 第25-42页 |
| ·AZO薄膜的制备 | 第25-31页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第25-26页 |
| ·溅射原理 | 第26-29页 |
| ·辉光放电 | 第26-27页 |
| ·辉光区的划分及溅射的形成 | 第27-29页 |
| ·AZO靶材的制备 | 第29-30页 |
| ·AZO薄膜的制备 | 第30页 |
| ·衬底的清洗 | 第30-31页 |
| ·溅射过程 | 第31页 |
| ·测试方法及原理 | 第31-42页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第31-32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·表面形貌的观测 | 第33-34页 |
| ·光学性质的测量 | 第34-37页 |
| ·透过率 | 第34-35页 |
| ·薄膜折射率 | 第35-36页 |
| ·薄膜的禁带宽度 | 第36-37页 |
| ·电学性质的测量 | 第37-42页 |
| ·四探针法 | 第37-38页 |
| ·霍尔效应 | 第38-42页 |
| 第三章 快速退火 | 第42-48页 |
| ·薄膜应力及其模型 | 第42-45页 |
| ·薄膜内应力的影响因素 | 第43-45页 |
| ·快速退火的原理 | 第45-46页 |
| ·RTP-500型快速退火炉 | 第46-47页 |
| ·AZO薄膜快速退火的曲线 | 第47-48页 |
| 第四章 快速退火的温度对AZO薄膜性能的影响 | 第48-59页 |
| ·退火温度对AZO薄膜结构的影响 | 第49-53页 |
| ·AZO相结构以及应力分析 | 第49-52页 |
| ·AZO表面形貌分析 | 第52-53页 |
| ·退火温度对AZO薄膜的电学特性的影响 | 第53-55页 |
| ·退火温度对AZO薄膜的光学性能的影响 | 第55-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第五章 快速退火时间对AZO薄膜性能的影响 | 第59-69页 |
| ·退火时间对AZO薄膜结构的影响 | 第60-64页 |
| ·AZO相结构以及应力分析 | 第60-63页 |
| ·AZO表面形貌分析 | 第63-64页 |
| ·退火时间对AZO薄膜电学性能的影响 | 第64-65页 |
| ·退火时间对AZO薄膜光学性能的影响 | 第65-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-71页 |
| ·主要结果 | 第69-70页 |
| ·主要创新点 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第81-82页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第82页 |
