激光烧蚀制备纳米Si薄膜的成核区动力学研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-9页
第1章 引言	第9-15页
·Si基纳米材料的研究意义	第9-11页
·脉冲激光烧蚀制备纳米材料的研究现状	第11-13页
·本工作的意义及创新点	第13-15页
第2章 实验方法和样品检测	第15-22页
·脉冲激光烧蚀沉积原理及特点	第15-17页
·实验装置及特点	第17-19页
·纳米Si薄膜的制备过程	第19-20页
·样品检测技术	第20-22页
第3章 气相成核区位置和范围的确定	第22-31页
·成核区模型	第22-23页
·理论分析	第23-25页
·成核区位置和范围的确定	第25-31页
第4章 环境气压对成核区位置和范围的影响	第31-38页
·气压为1 PaAr气条件下成核区的确定	第31-33页
·气压为100 PaAr气条件下成核区的确定	第33-36页
·环境气压对晶粒分布及成核区的影响	第36-38页
第5章 通过引入外加电场确定成核区的方法	第38-45页
·不同电压下的实验结果及比较	第38-43页
·实验结果	第38-41页
·实验结果比较	第41-43页
·通过外加电场确定成核区	第43-45页
第6章 结束语	第45-46页
参考文献	第46-50页
附录	第50-51页
致谢	第51页