| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| ·甚短距离光互连技术介绍 | 第10-11页 |
| ·甚短距离光互连技术研究与发展现状 | 第11-16页 |
| ·甚短距离光互连技术研究背景 | 第11-13页 |
| ·甚短距离光互连技术的研究动态 | 第13-16页 |
| ·本文的选题和研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 甚短距离光互连系统的关键技术 | 第18-29页 |
| ·光互连与电互连的比较 | 第18-19页 |
| ·光互连物理层构架系统 | 第19-27页 |
| ·半导体激光器技术 | 第20-22页 |
| ·光电接口芯片 | 第22-23页 |
| ·光探测器 | 第23-24页 |
| ·光互连中的光路技术 | 第24-27页 |
| ·甚短距离光互连协议 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 平面光波导理论及光路算法研究 | 第29-41页 |
| ·光波导基本理论 | 第29-32页 |
| ·电磁场理论 | 第29-30页 |
| ·光波导理论 | 第30-32页 |
| ·平面光波导光路 | 第32-35页 |
| ·PLCs 技术 | 第32-34页 |
| ·PLCs 技术工艺流程介绍 | 第34-35页 |
| ·SOI 技术 | 第35-36页 |
| ·光波导光路设计算法研究 | 第36-39页 |
| ·有效折射率 | 第36-38页 |
| ·有限差分-光束传播法（Finite Difference Beam Propagation Method) | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 基于SOI 材料的光波导光路设计 | 第41-54页 |
| ·单模直波导 | 第41-45页 |
| ·大截面单模直波导理论 | 第41-42页 |
| ·单模传输条件直波导的分析和修正 | 第42-45页 |
| ·多模干涉光分路器 | 第45-53页 |
| ·自镜像效应（Self-Imaging Effect SIE） | 第46-51页 |
| ·改进型1×4 MMI 功分器优化分析 | 第51-52页 |
| ·数据分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 光互连中光耦合研究 | 第54-72页 |
| ·芯片间光耦合技术简介 | 第54-55页 |
| ·光耦合理论分析 | 第55-61页 |
| ·光源与波导之间的直接耦合分析 | 第57-59页 |
| ·透镜耦合效率分析 | 第59-61页 |
| ·一种高耦合效率的非对称双曲透镜光耦合模型研究与设计 | 第61-68页 |
| ·理想非对称双曲透镜设计 | 第61-64页 |
| ·透镜耦合效率分析 | 第64-68页 |
| ·光调准封装工艺技术 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 光波导刻蚀工艺和测试平台建立 | 第72-86页 |
| ·波导光路几何形状的绘制与掩膜版的制作 | 第72页 |
| ·波导的工艺流程 | 第72-82页 |
| ·SOI 基片准备 | 第73页 |
| ·淀积金属铝 | 第73-74页 |
| ·涂布底部抗反射涂层（Back Anti-Reflection Coat,BARC） | 第74-75页 |
| ·涂布光刻胶 | 第75-76页 |
| ·软烘 | 第76页 |
| ·对准和曝光 | 第76-77页 |
| ·曝光后烘焙 | 第77页 |
| ·显影 | 第77-78页 |
| ·坚膜 | 第78页 |
| ·刻蚀 | 第78-82页 |
| ·误差分析 | 第82-83页 |
| ·几何参数误差分析 | 第82页 |
| ·波导边缘不整齐的原因及解决方法 | 第82-83页 |
| ·出现小黑斑的原因及解决办法 | 第83页 |
| ·波导光路测试平台的建立 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第七章 总结与展望 | 第86-88页 |
| ·本文总结 | 第86页 |
| ·研究展望 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-93页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第93-94页 |
