氧化钒薄膜材料及非制冷红外探测器微结构设计的研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·红外探测器概述 | 第9-12页 |
| ·红外辐射基本性质 | 第9-10页 |
| ·红外探测器的分类 | 第10-11页 |
| ·红外探测器及红外成像系统的发展 | 第11-12页 |
| ·非制冷红外探测器的研究 | 第12-19页 |
| ·非制冷红外探测器概述 | 第12-13页 |
| ·测辐射热计红外探测器的原理 | 第13-15页 |
| ·测辐射热计红外探测器用热敏感材料 | 第15-16页 |
| ·测辐射热计红外探测器的绝热结构研究 | 第16-19页 |
| ·微结构的MEMS 制造技术 | 第19-22页 |
| ·体微加工技术 | 第20-21页 |
| ·表面微加工技术 | 第21页 |
| ·多孔硅技术 | 第21-22页 |
| ·研究背景、内容及意义 | 第22-24页 |
| 第二章 氧化钒热敏薄膜材料的研究 | 第24-35页 |
| ·氧化钒的晶体结构与特性 | 第24-29页 |
| ·V_20_5结构和特性 | 第24-25页 |
| ·VO_2结构和特性 | 第25-27页 |
| ·V_2O_3结构和特性 | 第27-28页 |
| ·钒各种氧化物形态特性的比较 | 第28-29页 |
| ·氧化钒热敏薄膜的研究 | 第29-33页 |
| ·氧化钒薄膜的制备工艺 | 第30-32页 |
| ·氧化钒薄膜的表征 | 第32-33页 |
| ·影响氧化钒薄膜热电阻温度系数的因素 | 第33-35页 |
| 第三章 对靶反应磁控溅射氧化钒薄膜的研究 | 第35-57页 |
| ·对靶反应磁控溅射成膜机理 | 第36-38页 |
| ·V_20_5薄膜的制备和高真空退火的研究 | 第38-43页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·退火前后样品的形貌分析及物相表征 | 第39-43页 |
| ·正交试验设计方法 | 第43-44页 |
| ·玻璃基片上制备氧化钒薄膜的研究 | 第44-51页 |
| ·玻璃基片上氧化钒薄膜的制备 | 第44-45页 |
| ·退火后热敏性能的测试 | 第45-46页 |
| ·VOX薄膜组分的XPS分析 | 第46-48页 |
| ·VOX薄膜表面的AFM分析 | 第48-51页 |
| ·正交试验法在氧化硅基底上制备氧化钒薄膜的研究 | 第51-57页 |
| ·正交试验设计与工艺步骤 | 第51页 |
| ·实验结果与分析 | 第51-57页 |
| 第四章 氮化硅基底溅射氧化钒热敏薄膜的研究 | 第57-68页 |
| ·氮化硅基底基底上氧化钒薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·参数的正交实验设计与实验结果分析 | 第58-60页 |
| ·溅射功率对氧化钒薄膜的影响 | 第60-64页 |
| ·溅射功率对阻温特性的影响 | 第60-62页 |
| ·VO_X薄膜表面形貌AFM分析 | 第62-64页 |
| ·VO_X薄膜组分XPS分析 | 第64页 |
| ·两种基底上高热敏性能的氧化钒薄膜的比较 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 应用于微绝热结构的多孔硅材料的研究 | 第68-80页 |
| ·多孔硅绝热层的研究 | 第68-77页 |
| ·多孔硅的形成机制 | 第69-70页 |
| ·双槽电化学法制备多孔硅 | 第70-73页 |
| ·多孔硅绝热层上淀积氧化钒薄膜的研究 | 第73-77页 |
| ·去除多孔硅的腐蚀研究 | 第77-79页 |
| ·多孔硅去除后形成槽的侧壁和底面 | 第77-78页 |
| ·多孔硅去除后形成槽的图形 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第六章 绝热微结构的有限元优化分析 | 第80-92页 |
| ·有限元法简介 | 第80-81页 |
| ·探测器微结构的热分布分析 | 第81-84页 |
| ·热分析中的解析方法 | 第81-82页 |
| ·热分析中的数值方法和有限元分析 | 第82-84页 |
| ·对角支撑微桥的有限元结构优化分析 | 第84-91页 |
| ·对角支撑微桥的建模与分析 | 第84-86页 |
| ·对角支撑微桥的参数化建模 | 第86-87页 |
| ·最大形变的优化分析 | 第87-89页 |
| ·参数变量对位移和应力的影响 | 第89-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第七章 全文总结 | 第92-95页 |
| ·全文结论 | 第92-93页 |
| ·本文创新点 | 第93-94页 |
| ·以后工作展望 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-101页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第101-102页 |
| 附录 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
