| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstractor | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| §1.1 混响室的发展历程 | 第11-12页 |
| §1.2 混响室研究的重要意义 | 第12-14页 |
| §1.3 本文的创新成果及其价值 | 第14-19页 |
| 第二章 常用电磁测量环境 | 第19-26页 |
| §2.1 EMC辐射骚挠和辐射抗扰度测试环境 | 第19页 |
| §2.2 开阔场地 | 第19-20页 |
| §2.3 半电波暗室测试场地 | 第20-22页 |
| §2.4 全电波暗室测试场地 | 第22页 |
| §2.5 TEM小室和GTEM小室 | 第22-23页 |
| §2.6 混响室测试场地 | 第23-26页 |
| 第三章 混响室基本理论 | 第26-49页 |
| §3.1 混响室电磁场理论 | 第26-37页 |
| §3.1.1 混响室内电磁场的理论推导 | 第26-28页 |
| §3.1.2 混响室内的电磁场分类 | 第28-29页 |
| §3.1.3 混响室品质因数Q | 第29-32页 |
| §3.1.4 混响室内的品质因数带宽 | 第32-33页 |
| §3.1.5 混响室内模分布和模数计算 | 第33-35页 |
| §3.1.6 混响室时间常数τ | 第35-37页 |
| §3.2 混响室平面波统计理论 | 第37-46页 |
| §3.2.1 混响室品质因数Q的测试 | 第37-38页 |
| §3.2.2 辐射发射功率的测量 | 第38-39页 |
| §3.2.3 混响室电场特性与磁场特性 | 第39-42页 |
| §3.2.4 空间电场相关函数 | 第42-44页 |
| §3.2.5 混响室概率密度函数 | 第44-46页 |
| §3.3 混响室常用到的其它理论 | 第46-47页 |
| §3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 混响室类型及性质 | 第49-69页 |
| §4.1 混响室类型分类 | 第49-50页 |
| §4.2 机械搅拌混响室性能分析 | 第50-51页 |
| §4.3 频率搅拌混响室性能分析 | 第51-52页 |
| §4.4 源搅拌混响室性能分析 | 第52-67页 |
| §4.4.1 对称模发射和反对称模发射原理分析 | 第52-54页 |
| §4.4.2 对称模发射和反对称模发射原理的数学模拟 | 第54-59页 |
| §4.4.3 源搅拌混响室搅拌机理 | 第59页 |
| §4.4.4 源搅拌或天线搅拌混响室的优缺点 | 第59-60页 |
| §4.4.5 对称模发射原理的实验验证 | 第60-67页 |
| §4.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 混响室电磁性能测试 | 第69-86页 |
| §5.1 混响室电磁屏蔽性能要求及测量 | 第69页 |
| §5.2 混响室场均匀性要求 | 第69-70页 |
| §5.3 混响室场均匀性校准 | 第70-73页 |
| §5.3.1 场均匀性校准步骤 | 第70-71页 |
| §5.3.2 测量数据处理 | 第71-72页 |
| §5.3.3 注意事项和对策 | 第72-73页 |
| §5.4 混响室其它电磁性能参数的计算 | 第73-74页 |
| §5.4.1 接收天线校准 | 第73页 |
| §5.4.2 混响室插入损耗 | 第73页 |
| §5.4.3 用天线估算混响室的电场 | 第73页 |
| §5.4.4 混响室最大加载验证 | 第73-74页 |
| §5.5 源搅拌混响室场均匀性校准的实测实验 | 第74-76页 |
| §5.6 测试前混响室的校准 | 第76-77页 |
| §5.7 Q值和时间常数的校准测试 | 第77-80页 |
| §5.7.1 用功率比值法测Q值和时间常数 | 第77-78页 |
| §5.7.2 利用脉冲发射测量混响室的品质因数Q和时间常数 | 第78-80页 |
| §5.8 模搅拌混响室校准 | 第80-83页 |
| §5.8.1 模搅拌技术考虑 | 第80-81页 |
| §5.8.2 搅拌考虑 | 第81-83页 |
| §5.9 混响室内电磁场相位测量 | 第83-85页 |
| §5.10 本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 混响室电磁兼容测试 | 第86-92页 |
| §6.1 混响室辐射抗扰度测试 | 第86-88页 |
| §6.1.1 测试布置 | 第86页 |
| §6.1.2 测试前的校准 | 第86页 |
| §6.1.3 辐射抗扰度测试步骤 | 第86-88页 |
| §6.2 混响室辐射发射测试 | 第88-91页 |
| §6.2.1 引言 | 第88页 |
| §6.2.2 测试布置 | 第88页 |
| §6.2.3 测试前的校准 | 第88-89页 |
| §6.2.4 辐射发射的测试步骤 | 第89页 |
| §6.2.5 EUT辐射功率的确定 | 第89-90页 |
| §6.2.6 EUT辐射场强(远场场强)的估计 | 第90-91页 |
| §6.3 本章小结 | 第91-92页 |
| 第七章 混响室设计 | 第92-101页 |
| §7.1 混响室类型选取 | 第92页 |
| §7.2 混响室尺寸 | 第92-96页 |
| §7.2.1 混响室工作频率范围 | 第92-93页 |
| §7.2.2 测试设备、被测设备的大小 | 第93页 |
| §7.2.3 混响室内所需要产生的场强值 | 第93-94页 |
| §7.2.4 被测设备辐射发射所需测出的最小辐射功率发射值 | 第94页 |
| §7.2.5 矩形机械搅拌混响室模分裂的考虑(形状考虑) | 第94-96页 |
| §7.3 搅拌器的设计 | 第96-100页 |
| §7.3.1 搅拌器尺寸 | 第96页 |
| §7.3.2 搅拌器形状 | 第96-98页 |
| §7.3.3 搅拌器的检验 | 第98-100页 |
| §7.4 本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-107页 |
| 致谢 | 第107-108页 |
| 在学期间的研究成果及论文 | 第108页 |
