| 第一章 前言 | 第1-12页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·国内外现状 | 第9-10页 |
| ·主要工作 | 第10-12页 |
| 第二章 CMOS 工艺中的电容与电感 | 第12-21页 |
| ·CMOS 工艺中的电容 | 第12-13页 |
| ·CMOS 工艺中的电感 | 第13-21页 |
| ·CMOS 工艺中的电感模型 | 第13-15页 |
| ·品质因数（Q） | 第15-19页 |
| ·电感Q 值的提高 | 第19-21页 |
| 第三章 噪声 | 第21-31页 |
| ·噪声模型 | 第21-25页 |
| ·热噪声 | 第21-23页 |
| ·散射噪声 | 第23-24页 |
| ·1/f 噪声 | 第24-25页 |
| ·二端口噪声网络 | 第25-27页 |
| ·级连网络的噪声 | 第27-31页 |
| 第四章 低噪声放大器的设计 | 第31-53页 |
| ·指标要求 | 第31-32页 |
| ·共源共栅源级去耦 | 第32-36页 |
| ·源级去耦 | 第33-34页 |
| ·共源共栅 | 第34-36页 |
| ·低噪声放大器的噪声分析 | 第36-39页 |
| ·级间匹配 | 第39-44页 |
| ·非线性分析 | 第44-49页 |
| ·放大器设计实例 | 第49-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 版图设计 | 第53-55页 |
| 第六章 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 在学期间研究成果 | 第59页 |