| 1 引言 | 第1-14页 |
| ·研究目的和意义 | 第11-12页 |
| ·研究方法和研究内容 | 第12页 |
| ·装饰膜氮化锆的研究现状 | 第12-14页 |
| 2 概述 | 第14-25页 |
| ·薄膜的气相沉积制备技术 | 第14-15页 |
| ·蒸镀 | 第14-15页 |
| ·溅射镀 | 第15页 |
| ·离子镀 | 第15页 |
| ·溅射技术原理 | 第15-18页 |
| ·溅射现象及其机理 | 第15-16页 |
| ·溅射技术的发展历史 | 第16-17页 |
| ·辉光放电 | 第17-18页 |
| ·几种典型的溅射技术 | 第18-21页 |
| ·直流溅射 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射 | 第19-20页 |
| ·射频溅射 | 第20页 |
| ·非平衡磁控溅射 | 第20-21页 |
| ·反应溅射及其存在的问题 | 第21-22页 |
| ·反应溅射 | 第21页 |
| ·反应溅射存在的问题 | 第21-22页 |
| ·中频溅射技术在反应溅射中的应用 | 第22-23页 |
| ·质谱分析仪引入镀膜的工艺控制 | 第23-25页 |
| ·反应溅射的迟滞效应 | 第23页 |
| ·质谱分析法的引入 | 第23-25页 |
| 3 试验材料与设备 | 第25-30页 |
| ·试验材料 | 第25页 |
| ·基体材料及预处理 | 第25页 |
| ·试验靶材及气源 | 第25页 |
| ·中频反应磁控溅射真空镀膜系统 | 第25-27页 |
| ·抽气系统 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射靶 | 第26页 |
| ·溅射电源和偏压电源 | 第26-27页 |
| ·供气系统 | 第27页 |
| ·检测设备 | 第27-30页 |
| ·气体分析系统 | 第27-28页 |
| ·分光测色计 | 第28页 |
| ·干涉显微镜 | 第28-29页 |
| ·俄歇微探针 | 第29-30页 |
| 4 试验工艺及试验方案 | 第30-37页 |
| ·氮化锆薄膜的制备工艺 | 第30-34页 |
| ·镀膜前处理 | 第30页 |
| ·镀膜工艺流程 | 第30-34页 |
| ·记录数据 | 第34页 |
| ·成品记录 | 第34页 |
| ·Zr-N薄膜的试样制备方案 | 第34-37页 |
| ·不同工作气压下的Zr-N薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·不同反应气体分压下的Zr-N薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·不同溅射功率下的Zr-N薄膜的制备 | 第36页 |
| ·不同基体偏压下的Zr-N薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 5 Zr-N薄膜沉积速率的影响因素分析 | 第37-43页 |
| ·不同工作气压对Zr-N薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·不同工作气压下Zr-N薄膜沉积速率的试验结果 | 第37页 |
| ·工作气压对沉积速率影响的分析 | 第37-38页 |
| ·不同氮气分压对Zr-N薄膜沉积速率的影响 | 第38-40页 |
| ·不同氮气分压下Zr-N薄膜沉积速率的试验结果 | 第39页 |
| ·氮气分压对沉积速率影响的分析 | 第39-40页 |
| ·不同溅射功率下对Zr-N薄膜沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| ·不同溅射功率下Zr-N薄膜沉积速率的试验结果 | 第40页 |
| ·溅射功率对沉积速率影响的分析 | 第40-41页 |
| ·不同基体偏压对Zr-N薄膜沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| ·不同基体偏压下Zr-N薄膜沉积速率的测量结果 | 第41页 |
| ·基体偏压对沉积速率影响的分析 | 第41-42页 |
| ·其他条件对沉积速率的影响 | 第42页 |
| ·讨论 | 第42-43页 |
| 6 Zr-N膜颜色的影响因素分析 | 第43-54页 |
| ·Zr-N膜颜色研究现状 | 第43页 |
| ·颜色的测量与成因机理 | 第43-46页 |
| ·应用CIE1931色度图来标定物体的颜色 | 第44-45页 |
| ·CIEl 976 L~*a~*b~*色度空间及色差公式 | 第45-46页 |
| ·Zr-N制备试验的颜色测量的试验结果 | 第46-48页 |
| ·不同工作气压下制备的Zr-N薄膜颜色测量结果 | 第46-47页 |
| ·不同氮气分压下制备的Zr-N薄膜颜色测量结果 | 第47-48页 |
| ·不同溅射功率下制备的Zr-N薄膜颜色测量结果 | 第48页 |
| ·不同基体偏压下制备的Zr-N薄膜颜色测量结果 | 第48页 |
| ·Zr-N薄膜颜色的影响因素分析 | 第48-52页 |
| ·氮气分压的影响 | 第48-49页 |
| ·溅射功率的影响 | 第49-50页 |
| ·工作气压的影响 | 第50-51页 |
| ·基体偏压的影响 | 第51页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第51-52页 |
| ·其他参数对薄膜颜色的影响 | 第52页 |
| ·Zr-N薄膜颜色与黄金和金合金颜色的比较 | 第52页 |
| ·不同氮分压下薄膜的反射率曲线 | 第52-53页 |
| ·讨论 | 第53-54页 |
| 7 不同氮分压下氮化锆薄膜的成分分析 | 第54-61页 |
| ·俄歇深度分析原理 | 第54页 |
| ·Zr-N薄膜的表面元素定性分析 | 第54-55页 |
| ·Zr-N薄膜样品的半定量分析 | 第55-59页 |
| ·2-9~#试样的俄歇深度分析 | 第59-60页 |
| ·讨论 | 第60-61页 |
| 8 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61页 |
| ·创新与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 作者简历 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-74页 |