第一章 绪论 | 第1-28页 |
·碳纳米管的简介 | 第9-10页 |
·碳纳米管的制备 | 第10-19页 |
·石墨电弧法 | 第11-12页 |
·石墨激光蒸发法 | 第12页 |
·催化裂解法 | 第12-15页 |
·催化剂的影响 | 第13-14页 |
·载体的影响 | 第14-15页 |
·模板法 | 第15-18页 |
·阳极氧化铝模板 | 第15-16页 |
·二氧化硅模板 | 第16-17页 |
·“径迹刻蚀”膜 | 第17页 |
·高聚物模板 | 第17-18页 |
·其它方法 | 第18-19页 |
·等离子体喷射沉积的方法 | 第18页 |
·凝聚相电解生成法 | 第18页 |
·增强等离子热流体化学蒸气分解沉积法(PE-HF-CVD法) | 第18-19页 |
·碳纳米管管径控制 | 第19-20页 |
·碳纳米管的生长机理 | 第20-22页 |
·电弧法中碳纳米管的生长机理模型 | 第20-21页 |
·封闭生长机理 | 第20页 |
·开口生长机理 | 第20页 |
·电场诱导生长模型 | 第20-21页 |
·CVD方法制备纳米碳管的生长机理 | 第21-22页 |
·顶部生长机理 | 第21页 |
·底部生长机理 | 第21-22页 |
·碳帽机理 | 第22页 |
·气相 液相 固相机理(VLS机理) | 第22页 |
·激光蒸发法制各纳米碳管的生长机理 | 第22页 |
·碳纳米管的应用 | 第22-24页 |
·催化领域 | 第23-24页 |
·储氢功能 | 第24页 |
·材料领域 | 第24页 |
·电子领域 | 第24页 |
·结束语 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-28页 |
第二章 实验内容及数据处理 | 第28-35页 |
·主要化学试剂 | 第28页 |
·催化剂的制备 | 第28-29页 |
·镍-铜-铝金属复合物催化剂的制备 | 第28-29页 |
·不同处理的碳纳米管负载镍-铜-铝金属复合物的催化剂制备 | 第29页 |
·碳纳米管的酸处理 | 第29页 |
·碳纳米管的碱处理 | 第29页 |
·负载型催化剂的制备 | 第29页 |
·多孔氧化铝膜及其催化剂的制备 | 第29页 |
·多孔氧化铝膜的制备 | 第29页 |
·催化剂的负载 | 第29页 |
·碳纳米管的制备 | 第29-30页 |
·催化裂解法 | 第30页 |
·模板法 | 第30页 |
·催化剂及碳纳米管的表征 | 第30-35页 |
·甲烷转化率的在线检测 | 第31页 |
·程序升温还原(TPR) | 第31-33页 |
·催化剂活性镍表面积的测定 | 第33-34页 |
·样品的物性表征 | 第34-35页 |
·样品体相结构的鉴定 | 第34页 |
·样品比表面积的测定 | 第34页 |
·样品的扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)的测定 | 第34页 |
·样品的TG测定 | 第34-35页 |
第三章 催化剂的制备条件对碳纳米管的影响 | 第35-45页 |
·铜含量对催化剂制备的影响 | 第35-41页 |
·铜含量对碳纳米管生长的影响 | 第35-38页 |
·铜含量对催化剂还原温度的影响 | 第38-39页 |
·铜含量对碳纳米管形貌的影响 | 第39-41页 |
·催化剂焙烧方式和焙烧温度的影响 | 第41-43页 |
·催化剂焙烧温度的影响 | 第41-42页 |
·催化剂前驱物焙烧方式的影响 | 第42-43页 |
·本章小节 | 第43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
第四章 毒物和反应条件对制备大管径壁薄碳纳米管的影响 | 第45-54页 |
·毒物对碳纳米管生长的影响 | 第45-48页 |
·不同毒物对碳纳米管产量的影响 | 第45-47页 |
·不同毒物下生长的碳纳米管形貌 | 第47-48页 |
·碳酸钠毒物的加入量对碳纳米管的影响 | 第48-50页 |
·反应温度对碳纳米管生长的影响 | 第50-53页 |
·本章小节 | 第53页 |
参考文献 | 第53-54页 |
第五章 碳纳米管作为载体制备碳纳米管 | 第54-66页 |
·不同载体对催化制备碳纳米管的影响 | 第54-60页 |
·载体对碳纳米管产率的影响及催化剂TEM观察 | 第54-56页 |
·负载型催化剂的TPR研究 | 第56-57页 |
·催化剂的热分析 | 第57-59页 |
·催化剂及碳纳米管的XRD分析 | 第59-60页 |
·载体的不同处理方式的影响 | 第60-64页 |
·载体的不同处理方式对生成碳纳米管的影响 | 第60-62页 |
·负载型催化剂的TPR研究 | 第62-63页 |
·负载型催化剂的XRD分析 | 第63页 |
·负载型催化剂的热分析 | 第63-64页 |
·本章小节 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-66页 |
第六章 多孔氧化铝模板法制备碳纳米管 | 第66-74页 |
·多孔氧化铝膜形成原理的研究 | 第66-68页 |
·电化学原理 | 第66-67页 |
·氧化铝多孔层结构形成原理 | 第67-68页 |
·多孔氧化铝膜及其碳纳米管的制备研究 | 第68-71页 |
·氧化时间对多孔氧化铝膜孔深的影响 | 第68-69页 |
·氧化电压对碳纳米管孔径的影响 | 第69-70页 |
·不同溶液对多孔氧化铝模板法制备的碳纳米管纯化的影响 | 第70-71页 |
·气相沉积-模板法和气相沉积-中毒法的比较 | 第71-73页 |
·碳纳米管形貌与管径的观察与比较 | 第72页 |
·两种方法制备的碳纳米管XRD比较 | 第72-73页 |
·本章小节 | 第73页 |
参考文献 | 第73-74页 |
第七章 结论 | 第74-75页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |