| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·概述 | 第11页 |
| ·空化与空蚀 | 第11-13页 |
| ·空化 | 第11-12页 |
| ·空化的分类 | 第12页 |
| ·空蚀 | 第12页 |
| ·空蚀的危害 | 第12-13页 |
| ·空蚀磨损的研究进展 | 第13-17页 |
| ·空化机理 | 第13-14页 |
| ·空蚀破坏机理 | 第14-16页 |
| ·材料空蚀磨损特性 | 第16-17页 |
| ·微电子机械系统中的空蚀现象 | 第17-18页 |
| ·微电子机械系统 | 第17页 |
| ·微电子机械中空蚀磨损的研究 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第18-19页 |
| ·主要研究内容 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| 第2章 实验内容和实验方法 | 第19-29页 |
| ·实验材料及设备 | 第19页 |
| ·实验材料 | 第19页 |
| ·实验设备 | 第19页 |
| ·离子束增强沉积技术 | 第19-23页 |
| ·离子束增强沉积工艺特点 | 第19-21页 |
| ·多功能离子束增强沉积设备 | 第21页 |
| ·沉积设备结构组成及工作原理 | 第21-23页 |
| ·离子束增强沉积薄膜的制备 | 第23-24页 |
| ·薄膜基体的制备 | 第23-24页 |
| ·沉积薄膜的制备 | 第24页 |
| ·空蚀磨损实验设备 | 第24-27页 |
| ·磁致伸缩超声振荡仪 | 第25-26页 |
| ·设备结构及工作原理 | 第26-27页 |
| ·沉积薄膜的空蚀磨损实验 | 第27-29页 |
| 第3章 沉积薄膜的空蚀磨损特性 | 第29-37页 |
| ·概述 | 第29页 |
| ·沉积薄膜空蚀前表面状态分析 | 第29-30页 |
| ·沉积薄膜表面微观形貌 | 第29-30页 |
| ·沉积薄膜的接触角和表面能 | 第30页 |
| ·沉积薄膜空蚀后表面状态分析 | 第30-33页 |
| ·薄膜空蚀后表面微观形貌 | 第30-32页 |
| ·薄膜空蚀之后的接触角和表面能 | 第32-33页 |
| ·沉积薄膜表面形貌变化原因分析 | 第33-34页 |
| ·Ti6Al4V金属的空蚀磨损特性 | 第34-35页 |
| ·Ti6Al4V沉积薄膜和Ti6Al4V金属的空蚀磨损特性比较 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第4章 薄膜空蚀磨损过程及磨损机理 | 第37-45页 |
| ·概述 | 第37页 |
| ·空蚀磨损过程及磨损机理 | 第37-40页 |
| ·空蚀孕育阶段 | 第38页 |
| ·薄膜空蚀磨损阶段 | 第38-39页 |
| ·薄膜剥蚀脱落阶段 | 第39-40页 |
| ·基体空蚀磨损阶段 | 第40页 |
| ·空蚀磨损图像的抽象处理 | 第40-43页 |
| ·图像分色处理 | 第40-41页 |
| ·空蚀磨损曲线的确立 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第5章 超声发生强度对薄膜空蚀磨损特性的影响 | 第45-55页 |
| ·概述 | 第45页 |
| ·超声发生强度对薄膜空蚀磨损特性的影响 | 第45-49页 |
| ·4.5W功率下薄膜的空蚀磨损现象 | 第45-47页 |
| ·8W功率下薄膜的空蚀磨损现象 | 第47-48页 |
| ·12.5W功率下薄膜的空蚀磨损现象 | 第48-49页 |
| ·不同输出功率下薄膜的空蚀磨损特性比较 | 第49-53页 |
| ·空蚀磨损形貌 | 第49-51页 |
| ·空蚀磨损过程 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 研究生履历 | 第63页 |