| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·课题研究背景与意义 | 第8-9页 |
| ·极低频磁场对细胞生物效应的研究现状 | 第9-11页 |
| ·极低频磁场对细胞DNA 损伤的研究 | 第9-10页 |
| ·极低频磁场对细胞增殖分化、凋亡的研究 | 第10-11页 |
| ·极低频磁场对细胞内酶和自由基的研究 | 第11页 |
| ·膜片钳技术应用于磁场生物效应的研究现状 | 第11-13页 |
| ·论文主要研究内容和结构 | 第13-15页 |
| 第二章 离子通道与膜片钳实验技术 | 第15-24页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·离子通道 | 第15-17页 |
| ·离子通道的基本特征 | 第15-16页 |
| ·电压门控离子通道 | 第16-17页 |
| ·膜片钳实验技术 | 第17-22页 |
| ·膜片钳技术的原理 | 第18-19页 |
| ·膜片钳技术的记录模式 | 第19-20页 |
| ·膜片钳实验系统 | 第20-21页 |
| ·膜片钳技术实验方法 | 第21-22页 |
| ·膜片钳实验中遇到的问题及讨论 | 第22-24页 |
| ·电极入液需注意的问题 | 第22页 |
| ·封接破膜需注意的问题 | 第22页 |
| ·膜片钳实验过程中的误差补偿 | 第22-24页 |
| 第三章 大脑皮层神经细胞膜上钠、钾离子通道电流的记录 | 第24-32页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·材料与方法 | 第24-26页 |
| ·材料 | 第24-25页 |
| ·方法 | 第25-26页 |
| ·通道电流的记录 | 第26-31页 |
| ·全细胞总电流的记录 | 第26-27页 |
| ·钠离子通道电流的记录 | 第27-28页 |
| ·瞬时外向钾离子通道电流(IA)的记录 | 第28-29页 |
| ·延迟整流钾离子通道电流(IK)的记录 | 第29-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第四章 不同强度工频磁场对神经元电压门控钠离子通道的影响 | 第32-41页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·材料与方法 | 第32-34页 |
| ·实验试剂 | 第32页 |
| ·皮层神经元的制备 | 第32页 |
| ·磁场装置及实验设计 | 第32-34页 |
| ·全细胞膜片钳记录和数据分析 | 第34页 |
| ·结果 | 第34-38页 |
| ·不同强度工频磁场对钠通道电流的影响 | 第34-35页 |
| ·不同强度工频磁场对钠通道激活特性的影响 | 第35-37页 |
| ·不同强度工频磁场对钠通道失活特性的影响 | 第37-38页 |
| ·分析与讨论 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 第五章 不同强度工频磁场对神经元瞬时外向钾通道的影响 | 第41-48页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·材料与方法 | 第41-42页 |
| ·实验试剂 | 第41页 |
| ·皮层神经元的制备 | 第41页 |
| ·磁场装置及实验设计 | 第41-42页 |
| ·全细胞膜片钳记录和数据分析 | 第42页 |
| ·结果 | 第42-46页 |
| ·不同强度工频磁场对瞬时外向钾通道电流（IA）影响 | 第42-43页 |
| ·不同强度工频磁场对瞬时外向钾通道稳态激活特性的影响 | 第43-44页 |
| ·不同强度工频磁场对瞬时外向钾通道稳态失活特性的影响 | 第44-46页 |
| ·分析与讨论 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第六章 不同强度工频磁场对神经元延迟整流钾通道的影响 | 第48-54页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·材料与方法 | 第48-49页 |
| ·实验试剂 | 第48页 |
| ·皮层神经元的制备 | 第48页 |
| ·磁场装置及实验设计 | 第48页 |
| ·全细胞膜片钳记录和数据分析 | 第48-49页 |
| ·结果 | 第49-52页 |
| ·不同强度工频磁场对延迟整流钾离子通道电流（IK）的影响 | 第49-50页 |
| ·不同强度工频磁场对延迟整流外向钾通道稳态激活特性的影响 | 第50-52页 |
| ·分析与讨论 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第七章 总结与展望 | 第54-57页 |
| ·工作总结 | 第54-55页 |
| ·论文的创新点 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
