激光熔覆控制系统及其检测硬件研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| ·选题背景及意义 | 第13-15页 |
| ·国内外激光熔覆研究现状分析 | 第15-21页 |
| ·控制系统方面的研究现状分析 | 第15-17页 |
| ·检测技术方面在国内外研究现状分析 | 第17-21页 |
| ·本课题的来源和意义 | 第21-22页 |
| ·本课题的来源 | 第21页 |
| ·本课题的意义 | 第21-22页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 激光熔覆控制系统总体方案设计 | 第23-33页 |
| ·系统结构 | 第23页 |
| ·控制参数的确定 | 第23页 |
| ·激光熔覆过程控制系统组成 | 第23页 |
| ·激光器 | 第23-24页 |
| ·粉末输送系统 | 第24-29页 |
| ·送粉机构 | 第25-28页 |
| ·粉末喷嘴 | 第28-29页 |
| ·熔覆层宽度检测单元 | 第29-30页 |
| ·CCD 传感器 | 第29-30页 |
| ·加工检测及控制 | 第30页 |
| ·电控位移台单元 | 第30-32页 |
| ·型号 | 第30-31页 |
| ·步进电机的工作原理及系统组成 | 第31页 |
| ·SC3 步进电机控制器的联机方式 | 第31-32页 |
| ·计算机控制系统 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 激光熔覆检测系统设计 | 第33-49页 |
| ·检测方案比较及其可行性分析 | 第33-35页 |
| ·基于 CCD 的熔池宽度检测 | 第33-34页 |
| ·熔覆带高度的检测 | 第34-35页 |
| ·本课题采用的检测方法 | 第35页 |
| ·熔池检测系统构成 | 第35-36页 |
| ·CCD 基本原理 | 第36-37页 |
| ·电荷的产生与存储 | 第36页 |
| ·电荷的藕合 | 第36-37页 |
| ·电荷的检测 | 第37页 |
| ·CCD 的特点 | 第37-38页 |
| ·熔池宽度检测系统的选型 | 第38-46页 |
| ·中性衰减片的选型 | 第38-39页 |
| ·CCD 选型注意事项 | 第39-41页 |
| ·CCD 的选型过程 | 第41-42页 |
| ·CCD 的型号及基本参数 | 第42-43页 |
| ·图像采集卡 | 第43-45页 |
| ·室内外解码器 | 第45页 |
| ·分析显示系统 | 第45页 |
| ·计算机 | 第45-46页 |
| ·软件结构与模块 | 第46-48页 |
| ·软件结构 | 第46页 |
| ·图像采集模块 | 第46页 |
| ·数据输入/输出模块 | 第46页 |
| ·图像处理模块 | 第46页 |
| ·噪声消除 | 第46-47页 |
| ·图像缩放与裁剪 | 第47页 |
| ·图像灰度化 | 第47-48页 |
| ·阈值分割 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 激光熔覆熔池形貌尺寸检测试验 | 第49-57页 |
| ·试验目的 | 第49页 |
| ·试验方案及过程 | 第49-50页 |
| ·工艺参数的选择 | 第49-50页 |
| ·主要仪器设备 | 第50页 |
| ·试验基体材料、熔覆材料及保护气体 | 第50-51页 |
| ·激光熔覆试验及检测系统的验证 | 第51-56页 |
| ·实时检测系统像素精度标定试验 | 第51页 |
| ·检测系统性能分析试验 | 第51-53页 |
| ·激光熔覆工艺参数对熔池宽度的影响 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 总结与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
