| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 电弧离子镀膜技术 | 第11-20页 |
| 1.2.1 电弧离子镀基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 电弧离子镀的应用 | 第12页 |
| 1.2.3 弧斑的性质与产生机理 | 第12-13页 |
| 1.2.4 弧斑的运动 | 第13-14页 |
| 1.2.5 电弧离子镀存在的问题及大颗粒产生机理 | 第14-15页 |
| 1.2.6 电弧离子镀设备介绍 | 第15-17页 |
| 1.2.7 电弧离子镀弧源的结构与发展 | 第17-20页 |
| 1.3 研究内容、研究思路和研究方法 | 第20-22页 |
| 1.4 研究的创新点 | 第22-24页 |
| 第2章 轴对称磁场对弧斑运动及TiN膜层的影响 | 第24-64页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-28页 |
| 2.3 轴对称磁场对弧斑运动轨迹的影响 | 第28-36页 |
| 2.3.1 实验内容 | 第28-29页 |
| 2.3.2 实验结果及讨论 | 第29-36页 |
| 2.4 轴对称磁场对弧斑的运动速度的影响 | 第36-46页 |
| 2.4.1 实验内容 | 第37页 |
| 2.4.2 实验结果及讨论 | 第37-46页 |
| 2.5 弧斑轨迹与运动速度对靶面温度的影响 | 第46-53页 |
| 2.5.1 实验内容 | 第46-47页 |
| 2.5.2 实验结果及讨论 | 第47-53页 |
| 2.6 靶面温度对TiN膜层表面质量和成膜速度的影响 | 第53-62页 |
| 2.6.1 TiN膜层的制备 | 第53-55页 |
| 2.6.2 膜层成分分析 | 第55-57页 |
| 2.6.3 膜层表面质量分析 | 第57-61页 |
| 2.6.4 膜层沉积速率分析 | 第61-62页 |
| 2.7 本章小结 | 第62-64页 |
| 第3章 扫描磁场对弧斑运动和TiN膜层的影响 | 第64-90页 |
| 3.1 引言 | 第64-65页 |
| 3.2 扫描磁场的设计原理 | 第65页 |
| 3.3 扫描参数的选择对弧斑运动的影响 | 第65-74页 |
| 3.4 扫描频率对镀膜的影响 | 第74-87页 |
| 3.4.1 实验内容 | 第74-75页 |
| 3.4.2 实验结果及讨论 | 第75-87页 |
| 3.5 本章小结 | 第87-90页 |
| 第4章 结论与展望 | 第90-92页 |
| 4.1 结论 | 第90-91页 |
| 4.2 展望 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-98页 |
| 致谢 | 第98-100页 |
| 附录 | 第100页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第100页 |