| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 ZnO的晶体结构 | 第13-15页 |
| 1.3 ZnO的基本性质 | 第15-16页 |
| 1.4 MgZnO合金及能带工程 | 第16-18页 |
| 1.4.1 MgZnO晶体结构和基本性质 | 第17页 |
| 1.4.2 MgZnO/ZnO异质结、超晶格、量子阱 | 第17-18页 |
| 1.5 本论文的主要内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 不同氧分压对MgZnO准三元混晶生长的影响 | 第24-49页 |
| 2.1 引言 | 第24-26页 |
| 2.2 材料的生长工艺及过程详解 | 第26-34页 |
| 2.2.1 几种生长方法的简要介绍 | 第26-30页 |
| 2.2.2 本课题用MBE系统详解 | 第30-33页 |
| 2.2.3 MgZnO准三元混晶的制备过程 | 第33-34页 |
| 2.3 MgZnO准三元混晶的实验分析 | 第34-44页 |
| 2.3.1 MgZnO准三元混晶的晶体质量 | 第35-39页 |
| 2.3.2 MgZnO准三元混晶的表面形貌 | 第39-43页 |
| 2.3.3 MgZnO准三元混晶PL光谱 | 第43-44页 |
| 2.4 小结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第三章 不同缓冲层下MgZnO准三元混晶的晶体质量和光学特性 | 第49-62页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 MgO缓冲层上MgZnO准三元混晶的制备和表征 | 第49-55页 |
| 3.2.1 MgZnO准三元混晶的制备 | 第50页 |
| 3.2.2 MgZnO准三元混晶的透射谱表征 | 第50-53页 |
| 3.2.3 MgZnO准三元混晶的XRD表征 | 第53-54页 |
| 3.2.4 MgZnO准三元混晶的AFM表征 | 第54-55页 |
| 3.3 MgO/ZnO双缓冲层上MgZnO准三元混晶的制备和表征 | 第55-58页 |
| 3.3.1 MgZnO准三元混晶的制备 | 第55-57页 |
| 3.3.2 MgZnO准三元混晶XRD表征 | 第57-58页 |
| 3.3.3 MgZnO准三元混晶AFM表征 | 第58页 |
| 3.4 讨论 | 第58-60页 |
| 3.5 小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第四章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
