钧瓷窑变釉的形成及自还原法制备青瓷釉的研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 陶瓷釉的烧成方法 | 第14-17页 |
| 1.2.1 陶瓷窑炉的发展 | 第14-16页 |
| 1.2.2 烧成气氛 | 第16页 |
| 1.2.3 自还原法的概念及研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3 青瓷釉的研究背景 | 第17-19页 |
| 1.3.1 青瓷釉的发展演变 | 第17-19页 |
| 1.3.2 青瓷釉的研容现状 | 第19页 |
| 1.4 钧瓷窑变釉的研究背景 | 第19-20页 |
| 1.4.1 钧瓷起源与发展 | 第19-20页 |
| 1.4.2 钧瓷窑变釉的研究现状 | 第20页 |
| 1.5 本课题的研究思路及内容 | 第20-22页 |
| 2 实验 | 第22-30页 |
| 2.1 原料及仪器设备 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第23页 |
| 2.2 实验配方设计及工艺研究 | 第23-27页 |
| 2.2.1 实验配方设计 | 第23-25页 |
| 2.2.2 实验参数 | 第25-27页 |
| 2.3 材料测试与表征 | 第27-30页 |
| 2.3.1 XRF分析 | 第27页 |
| 2.3.2 色度分析 | 第27页 |
| 2.3.3 XRD分析 | 第27-28页 |
| 2.3.4 显微镜 | 第28页 |
| 2.3.5 SEM分析 | 第28页 |
| 2.3.6 拉曼光谱分析 | 第28页 |
| 2.3.7 XPS分析 | 第28-29页 |
| 2.3.8 TG-DSC热分析 | 第29页 |
| 2.3.9 紫外-可见-近红外分光光度计 | 第29-30页 |
| 3 钧瓷窑变釉的制备研究 | 第30-38页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 实验 | 第30-32页 |
| 3.2.1 原料 | 第30页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第30-31页 |
| 3.2.3 原料样品表征 | 第31-32页 |
| 3.3 釉面分析 | 第32页 |
| 3.4 物相分析 | 第32-34页 |
| 3.5 微观结构分析 | 第34页 |
| 3.6 釉色形成机理分析 | 第34-37页 |
| 3.7 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 自还原法制备青瓷釉的工艺探索 | 第38-58页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 还原剂对自还原制备青瓷釉的影响 | 第38-43页 |
| 4.2.1 实验 | 第38-39页 |
| 4.2.2 釉面效果分析 | 第39-40页 |
| 4.2.3 物相分析 | 第40-41页 |
| 4.2.4 微观结构分析 | 第41-43页 |
| 4.3 着色剂对自还原制备青瓷釉的影响 | 第43-47页 |
| 4.3.1 实验 | 第43页 |
| 4.3.2 釉面效果分析 | 第43-45页 |
| 4.3.3 物相分析 | 第45-46页 |
| 4.3.4 微观结构分析 | 第46-47页 |
| 4.4 分相剂对自还原制备青瓷釉的影响 | 第47-52页 |
| 4.4.1 实验 | 第47-48页 |
| 4.4.2 釉面效果分析 | 第48-50页 |
| 4.4.3 物相分析 | 第50页 |
| 4.4.4 微观结构分析 | 第50-52页 |
| 4.5 烧成温度对自还原制备青瓷釉的影响 | 第52-56页 |
| 4.5.1 实验 | 第52页 |
| 4.5.2 釉面效果分析 | 第52-54页 |
| 4.5.3 物相分析 | 第54-55页 |
| 4.5.4 微观结构分析 | 第55-56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 5 自还原法制备青瓷釉的机理研究 | 第58-67页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 紫外吸收光谱分析 | 第58-59页 |
| 5.3 X射线光电子能谱分析 | 第59-60页 |
| 5.4 TG-DSC分析 | 第60-63页 |
| 5.5 中性气氛下自还原法探索 | 第63-65页 |
| 5.6 反应机制及呈色机理分析 | 第65-66页 |
| 5.7 本章小节 | 第66-67页 |
| 6 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及专利 | 第75-76页 |
