| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 废水中有机污染物的危害及治理 | 第12页 |
| 1.2 半导体光催化概述 | 第12-16页 |
| 1.2.1 半导体光催化研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光催化降解有机污染物的基本原理 | 第13-14页 |
| 1.2.3 常用的半导体光催化材料 | 第14-16页 |
| 1.3 提高半导体光催化性能的主要途径 | 第16-19页 |
| 1.3.1 改变形貌和尺寸 | 第17页 |
| 1.3.2 构筑异质结 | 第17-18页 |
| 1.3.3 贵金属沉积 | 第18页 |
| 1.3.4 离子掺杂 | 第18-19页 |
| 1.3.5 光敏化 | 第19页 |
| 1.4 WO_3纳米材料概述 | 第19-21页 |
| 1.4.1 WO_3纳米材料的结构与性质 | 第19-20页 |
| 1.4.2 WO_3纳米材料的研究现状 | 第20页 |
| 1.4.3 二维纳米片光催化材料的优势 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题的研究意义与主要内容 | 第21-24页 |
| 第二章 WO_3/SnNb_2O_6纳米异质结复合光催化剂的制备及其可见光催化性能研究 | 第24-38页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-28页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.3 光催化剂的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.4 样品表征 | 第27页 |
| 2.2.5 光催化活性实验 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-37页 |
| 2.3.1 XRD与XPS分析 | 第28-30页 |
| 2.3.2 TEM、AFM与Mapping分析 | 第30-31页 |
| 2.3.3 催化活性与稳定性研究 | 第31-33页 |
| 2.3.4 UV-VisDRS分析 | 第33-34页 |
| 2.3.5 PL与光电流分析 | 第34-35页 |
| 2.3.6 光催化机理探讨 | 第35-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 WO_3/K~+Ca_2Nb~3O_(10)~-纳米异质结复合光催化剂的制备及其可见光催化性能研究 | 第38-54页 |
| 3.1 引言 | 第38-39页 |
| 3.2 实验部分 | 第39-40页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第39页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第39页 |
| 3.2.3 光催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 3.2.4 样品表征 | 第40页 |
| 3.2.5 光催化活性实验 | 第40页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第40-52页 |
| 3.3.1 XRD与XPS分析 | 第40-42页 |
| 3.3.2 TEM、AFM与Mapping分析 | 第42-44页 |
| 3.3.3 UV-VisDRS、光电流与PL分析 | 第44-47页 |
| 3.3.4 光催化性能与稳定性 | 第47-48页 |
| 3.3.5 光降解中间产物分析 | 第48-50页 |
| 3.3.6 机理探讨 | 第50-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 WO_3/Bi_(24)O_(31)Br_(10)纳米异质结复合光催化剂的制备及其可见光催化性能研究 | 第54-68页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第55页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第55页 |
| 4.2.3 光催化剂的制备 | 第55-56页 |
| 4.2.4 样品表征 | 第56页 |
| 4.2.5 光催化活性实验 | 第56页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第56-67页 |
| 4.3.1 XRD与XPS分析 | 第56-58页 |
| 4.3.2 TEM与Mapping分析 | 第58-60页 |
| 4.3.3 UV-VisDRS、光电流与PL分析 | 第60-62页 |
| 4.3.4 光催化性能与稳定性 | 第62-64页 |
| 4.3.5 机理探讨 | 第64-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 结论 | 第68-69页 |
| 5.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读学位期间主要的科研成果 | 第85页 |
