基于TiOPc的光敏有机场效应管优化研究
致谢 | 第6-7页 |
摘要 | 第7-8页 |
abstract | 第8-9页 |
1 绪论 | 第13-20页 |
1.1 引言 | 第13页 |
1.2 光发射有机场效应管 | 第13-14页 |
1.3 光吸收OFETs | 第14-18页 |
1.3.1 光诱生非易失存储器 | 第14-15页 |
1.3.2 光敏有机场效应管 | 第15-18页 |
1.4 本文工作简介 | 第18-20页 |
2 光敏有机场效应晶体管的结构、材料及基本理论 | 第20-27页 |
2.1 光敏有机场效应管的结构 | 第20-21页 |
2.2 光敏有机场效应管的材料 | 第21-24页 |
2.2.1 栅介质 | 第21-22页 |
2.2.2 沟道层 | 第22-24页 |
2.3 有机场效应管的基本理论 | 第24-26页 |
2.4 本章小结 | 第26-27页 |
3 基于TiOPc的光敏有机场效应管工艺优化 | 第27-43页 |
3.1 研究背景 | 第27页 |
3.2 器件的制备流程 | 第27-29页 |
3.2.1 材料与方法 | 第27-29页 |
3.2.2 表征 | 第29页 |
3.3 不同衬底温度器件性能测试对比 | 第29-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-43页 |
4 基于TiOPc传输层的光敏有机场效应管 | 第43-54页 |
4.1 C60/TiOPC光敏有机场效应管 | 第43-48页 |
4.1.1 器件的制备流程 | 第43-45页 |
4.1.2 结果与分析 | 第45-48页 |
4.2 PbPc/TiOPC光敏有机场效应管 | 第48-53页 |
4.2.1 器件的制备流程 | 第48-50页 |
4.2.2 结果与分析 | 第50-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-54页 |
5 总结与展望 | 第54-56页 |
5.1 全文总结 | 第54-55页 |
5.2 研究展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
作者简历 | 第61-62页 |