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金刚石/铜复合材料界面优化与热性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第14-28页
    1.1 引言第14页
    1.2 电子封装材料概述第14-17页
        1.2.1 电子封装材料的要求与分类第15页
        1.2.2 电子封装材料的发展趋势第15-17页
    1.3 金刚石/铜复合材料第17-23页
        1.3.1 金刚石的结构与性质第17-19页
        1.3.2 金刚石/铜复合材料的制备方法与研究现状第19-21页
        1.3.3 金刚石/铜复合材料热导率的影响因素第21-23页
    1.4 金刚石/铜复合材料界面问题及解决方法第23-26页
        1.4.1 基体合金化第23-24页
        1.4.2 金刚石表面金属化第24-25页
        1.4.3 金刚石表面结构修饰第25-26页
    1.5 研究背景、意义及内容第26-28页
第2章 实验工艺及研究方法第28-34页
    2.1 实验原材料第28页
    2.2 实验工艺流程与制备第28-32页
        2.2.1 实验工艺流程第28-29页
        2.2.2 包覆层的制备第29-30页
        2.2.3 复合材料的制备第30-32页
    2.3 组织形貌、界面结构表征与热性能测试第32-34页
        2.3.1 厚度的估算与表征第31-32页
        2.3.2 膜层结合性能测试第32页
        2.3.3 表面形貌、物相及界面结构分析第32页
        2.3.4 复合材料密度与热性能的测试第32-34页
第3章 金刚石表面包覆层设计与调控第34-43页
    3.1 引言第34页
    3.2 金刚石表面磁控溅射沉积铬包覆层第34-38页
        3.2.1 铬包覆层厚度的调控与表征第34-35页
        3.2.2 铬包覆层退火前后形貌及膜层结合性能测试第35-37页
        3.2.3 铬包覆层的物相结构与形成机理分析第37-38页
    3.3 金刚石表面磁控溅射沉积钨包覆层第38-41页
        3.3.1 钨包覆层厚度的调控与表征第38-39页
        3.3.2 钨包覆层退火前后形貌及膜层结合性能测试第39-40页
        3.3.3 钨包覆层的物相结构与形成机理分析第40-41页
    3.4 本章小结第41-43页
第4章 不同包覆层金刚石/铜复合材料界面与热性能研究第43-55页
    4.1 引言第43页
    4.2 铬包覆金刚石/铜复合材料界面结构及热性能第43-47页
        4.2.1 铬包覆层物相组成对复合材料界面结构及热性能的影响第43-45页
        4.2.2 铬包覆层厚度对复合材料界面结构及热性能的影响第45-47页
    4.3 钨包覆金刚石/铜复合材料界面结构及热性能第47-54页
        4.3.1 钨包覆层物相组成对复合材料界面结构及热性能的影响第47-52页
        4.3.2 钨包覆层厚度对复合材料界面结构及热性能的影响第52-54页
    4.4 本章小结第54-55页
第5章 离子束优化金刚石/铜复合材料界面与热性能研究第55-65页
    5.1 引言第55页
    5.2 氩离子束调节金刚石表面结构及其调控机理分析第55-61页
        5.2.1 金刚石表面改性后与钨包覆层界面反应特性第55-59页
        5.2.2 氩离子束表面改性机理的分析第59-61页
    5.3 金刚石/铜复合材料界面结合与微观形貌第61-62页
    5.4 金刚石/铜复合材料界面特性与其热传导性能的关系第62-64页
    5.5 本章小结第64-65页
结论第65-67页
参考文献第67-75页
附录 A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录第75-76页
致谢第76页

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