| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 本论文研究的目的和意义 | 第8页 |
| 1.2 关于钛酸钡薄膜国内外发展现状 | 第8-10页 |
| 1.2.1 国内发展现状 | 第8-9页 |
| 1.2.2 国外发展现状 | 第9-10页 |
| 1.2.3 国内外研究现状对比分析 | 第10页 |
| 1.3 本论文各章节的安排 | 第10-12页 |
| 第二章 光波导基础理论研究 | 第12-17页 |
| 2.1 矩形光波导基本结构与技术简介 | 第12-13页 |
| 2.2 矩形光波导的BPM理论 | 第13-15页 |
| 2.2.1 数值模拟方法 | 第14-15页 |
| 2.3 弯曲脊形波导中光损耗特性分析 | 第15-16页 |
| 2.3.1 弯曲波导的光损耗的一般性分析 | 第15-16页 |
| 2.3.2 弯曲波导的等效折射率 | 第16页 |
| 2.4 本章小结 | 第16-17页 |
| 第三章 基于钛酸钡薄膜的两种脊形波导的比较研究 | 第17-26页 |
| 3.1 钛酸钡薄膜脊形波导的结构设计 | 第17-24页 |
| 3.1.1 钛酸钡薄膜/氮化硅条形成的脊形波导结构 | 第17-21页 |
| 3.1.2 全钛酸钡脊形波导结构 | 第21-24页 |
| 3.2 掩膜版的设计 | 第24-25页 |
| 3.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第四章 基于钛酸钡薄膜两种脊形波导加工 | 第26-36页 |
| 4.1 钛酸钡晶体薄膜的沉积技术 | 第26-29页 |
| 4.1.1 脉冲激光沉积技术的优点 | 第26-27页 |
| 4.1.2 钛酸钡晶体薄膜生长工艺研究 | 第27-28页 |
| 4.1.3 氮化硅薄膜沉积工艺研究 | 第28-29页 |
| 4.2 脊形波导结构的制备工艺研究 | 第29-35页 |
| 4.2.1 掩膜版制作工艺研究 | 第29-30页 |
| 4.2.2 光刻工艺研究 | 第30-33页 |
| 4.2.3 刻蚀工艺研究与加工器件效果分析 | 第33-35页 |
| 4.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第五章 钛酸钡薄膜波导的测试 | 第36-41页 |
| 5.1 两种波导的端面处理 | 第36页 |
| 5.2 光波导测试系统 | 第36-37页 |
| 5.3 光波导的测试方法及数据 | 第37-39页 |
| 5.4 波导损耗的来源分析 | 第39-40页 |
| 5.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第六章 总结与展望 | 第41-42页 |
| 6.1 总结 | 第41页 |
| 6.2 展望 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第46页 |