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Sip/Al电子封装材料制备工艺及性能研究

摘要第1-12页
ABSTRACT第12-14页
第一章 绪论第14-28页
   ·电子封装材料概述第14-16页
     ·电子封装材料的作用第14页
     ·常用电子封装材料及其主要性能第14-16页
   ·金属基电子封装材料简介第16-20页
     ·基体材料的选择第17页
     ·增强体材料的选择第17-18页
     ·常用金属基电子封装材料简介第18-20页
   ·铝硅电子封装材料研究现状第20-27页
     ·一步成型方法第20-23页
     ·两步成型方法第23-27页
   ·论文研究的目的、内容及意义第27-28页
第二章 实验过程及方法第28-35页
   ·实验研究方案第28-29页
   ·实验原料及设备第29-30页
     ·实验原料第29页
     ·实验设备第29-30页
   ·材料的制备第30-33页
     ·粘接剂溶液配制第30-31页
     ·混料与造粒第31页
     ·模压成型第31-32页
     ·预制件生坯低温处理第32页
     ·预制件高温处理第32页
     ·真空液相气压浸渗第32-33页
   ·材料性能测试与分析第33-35页
     ·密度和体积分数的测量第33页
     ·物相分析第33页
     ·复合材料微观微观组织与形貌第33页
     ·气密性检测第33-34页
     ·膨胀系数测量第34页
     ·热导率测定第34页
     ·预制件和复合材料的抗弯强度第34-35页
第三章 模压成型制备Si 预制件的工艺研究第35-49页
   ·粘接剂的选择及其对预制件性能的影响第35-43页
     ·粘接剂体系的选择依据第35-36页
     ·三种粘接剂体系对生坯成型性的影响第36-39页
     ·粘接剂对预制件弯曲强度的影响第39-43页
   ·预制件孔隙率的调控规律研究第43-47页
     ·粉体粒度对预制件孔隙率的影响第43-44页
     ·模压成型压力对Si 预制件孔隙率的影响第44-45页
     ·淀粉和铝粉对预制件孔隙率的调节规律第45-47页
   ·小结第47-49页
第四章 铝硅复合材料的真空液相气压浸渗工艺及其组织、性能研究第49-61页
   ·真空液相气压浸渗工艺过程及工艺参数的选择第49-51页
     ·真空液相气压浸渗工艺过程第49-50页
     ·真空液相气压浸渗工艺参数的选择第50-51页
   ·真空液相气压浸渗过程中硅的溶解析出过程研究第51-56页
     ·不同真空液相气压浸渗条件下复合材料宏观尺寸与微观组织第51-53页
     ·真空液相气压浸渗过程中硅的溶解析出第53-55页
     ·硅的溶解析出对复合材料性能的影响第55-56页
   ·热处理对复合材料组织和性能的影响第56-60页
     ·热处理前后铝硅复合材料微观组织形貌的演变第56-58页
     ·热处理对复合材料性能的影响及分析第58-60页
   ·小结第60-61页
第五章 硅预制件高温处理工艺对复合材料组织性能影响规律研究第61-81页
   ·硅预制件高温氧化处理研究第61-67页
     ·高温氧化工艺参数的选择第61-63页
     ·高温氧化处理对预制件的影响第63-65页
     ·高温氧化处理对铝硅复合材料微观组织及性能的影响第65-67页
   ·硅预制件高温氮化处理研究第67-73页
     ·高温氮化工艺参数的选择第67-69页
     ·高温氮化处理对预制件的影响第69-71页
     ·高温氮化处理对铝硅复合材料微观组织及性能的影响第71-73页
   ·硅预制件高温碳化处理研究第73-80页
     ·高温碳化工艺参数的选择第73-75页
     ·高温碳化对预制件的影响第75-77页
     ·高温碳化处理对铝硅复合材料微观组织及性能的影响第77-80页
   ·小结第80-81页
第六章 结论第81-83页
致谢第83-84页
参考文献第84-89页
作者在学期间取得的学术成果第89页

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