| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第10-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第14-15页 |
| 1.2.3 国内外研究现状分析 | 第15页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 空间材料出气的评价方法研究 | 第16-28页 |
| 2.1 空间材料出气原理分析 | 第16-18页 |
| 2.1.1 材料真空出气规律 | 第16-17页 |
| 2.1.2 不同材料的出气成分分析 | 第17-18页 |
| 2.2 材料出气物质的表征方法 | 第18-20页 |
| 2.3 传统表征量的测试方法 | 第20-21页 |
| 2.4 多工位材料出气性能原位测试系统设计 | 第21-27页 |
| 2.4.1 设备组成 | 第21-23页 |
| 2.4.2 设备功能 | 第23-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 空间沾染对光学系统的损伤效应研究 | 第28-46页 |
| 3.1 空间沾染对光学系统的损伤原理 | 第28-33页 |
| 3.1.1 光学沾染的损伤效应分类 | 第28-29页 |
| 3.1.2 空间沾染对光学传递函数的影响原理 | 第29页 |
| 3.1.3 单层污染膜对光学系统反射率和透射率的影响 | 第29-33页 |
| 3.2 空间光学系统的损伤效应实测方法 | 第33-35页 |
| 3.2.1 不同污染程度光学基片的制备装置设计 | 第33-34页 |
| 3.2.2 提出空间光学系统的损伤效应的实测方法 | 第34-35页 |
| 3.3 光学系统的损伤效应实验 | 第35-37页 |
| 3.3.1 空间沾染物的选取 | 第35页 |
| 3.3.2 碳粉的沾染方式及实验器材 | 第35-37页 |
| 3.4 碳粉沾染对光学系统成像的影响研究 | 第37-44页 |
| 3.4.1 碳粉沾染对可见光成像的影响研究 | 第37-41页 |
| 3.4.2 碳粉沾染对红外光成像的影响研究 | 第41-43页 |
| 3.4.3 空间光学系统的损伤效应碳等效分析方法 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 空间光学系统的污染分析方法研究 | 第46-63页 |
| 4.1 空间光学系统的分类及所处污染环境 | 第46-48页 |
| 4.1.1 空间光学系统的分类 | 第46-47页 |
| 4.1.2 空间光学系统所处的污染环境 | 第47-48页 |
| 4.2 空间光学系统的空腔沾染分析模型 | 第48-59页 |
| 4.2.1 空腔沾染理论的提出 | 第48页 |
| 4.2.2 卡塞格伦光学系统的均匀沾染分析模型 | 第48-57页 |
| 4.2.3 卡塞格伦光学系统的非均匀沾染分析理论 | 第57-58页 |
| 4.2.4 主镜非均匀污染质量厚度的仿真分析 | 第58-59页 |
| 4.3 卡塞格伦光学系统的光学损伤评价 | 第59-62页 |
| 4.3.1 主镜的光学损伤评价分析 | 第60-61页 |
| 4.3.2 次镜的光学损伤评价分析 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68页 |