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二阶自相关MEC和MCE控制图改进

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第1章 绪论第9-15页
    1.1 研究的背景及意义第9页
    1.2 质量管理第9-10页
    1.3 自相关过程控制图国内外研究现状第10-12页
        1.3.1 国外研究现状第11-12页
        1.3.2 国内研究现状第12页
    1.4 常规控制图概述第12-14页
        1.4.1 统计过程控制的两种原因第13页
        1.4.2 统计过程控制的两种状态第13-14页
    1.5 本文的研究内容及结构第14-15页
第2章 二阶自相关残差控制图第15-24页
    2.1 AR(2)残差控制图ARL第15-18页
        2.1.1 AR(2)残差序列第15-16页
        2.1.2 AR(2)残差控制图ARL对比第16-18页
    2.2 残差控制图数值模拟对比第18-22页
        2.2.1 残差Shewhart控制图第18-20页
        2.2.2 残差EWMA控制图第20-21页
        2.2.3 残差CUSUM控制图第21-22页
    2.3 残差控制图的具体流程第22-23页
    2.4 本章小结第23-24页
第3章 残差混合控制图第24-30页
    3.1 MEC控制图第24页
    3.2 MCE控制图第24-25页
    3.3 控制图性能对比和分析第25-29页
        3.3.1 残差控制图ARL第25-28页
        3.3.2 残差控制图EQL第28-29页
    3.4 本章小结第29-30页
第4章 残差混合控制图实例分析第30-45页
    4.1 样本数据的收集第30-32页
    4.2 控制图类型的选择第32-36页
    4.3 自相关残差控制图第36-44页
    4.4 本章小结第44-45页
结论第45-46页
参考文献第46-50页
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果第50-51页
致谢第51页

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