摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第10-14页 |
第一章 扫描隧道显微镜简介 | 第14-29页 |
1.1 扫描隧道显微镜的发展历史 | 第14页 |
1.2 扫描隧道显微镜的工作原理 | 第14-16页 |
1.2.1 量子隧道效应 | 第14-16页 |
1.2.2 压电效应 | 第16页 |
1.3 针尖逼近系统 | 第16-20页 |
1.3.1 潘氏马达 | 第17-18页 |
1.3.2 惯性马达 | 第18-19页 |
1.3.3 Koala马达 | 第19-20页 |
1.4 STM的测量模式 | 第20-21页 |
1.4.1 基本模式 | 第20-21页 |
1.4.2 其它模式 | 第21页 |
1.5 STM的电流检测与反馈系统 | 第21-22页 |
1.6 STM的减振系统 | 第22-27页 |
参考文献 | 第27-29页 |
第二章 自制的高分辨率高稳定扫描隧道显微镜 | 第29-41页 |
2.1 概述 | 第29页 |
2.2 镜体和马达设计的考虑 | 第29-32页 |
2.2.1 镜体的刚性分析 | 第29-30页 |
2.2.2 针尖与样品间的热漂移分析 | 第30-32页 |
2.3 扫描隧道显微镜核心部件:镜体设计 | 第32-35页 |
2.3.1 显微镜镜体的结构 | 第32-33页 |
2.3.2 马达步进器 | 第33-34页 |
2.3.3 马达的工作原理 | 第34-35页 |
2.4 扫描部件的结构 | 第35-36页 |
2.5 前置放大电路 | 第36-37页 |
2.6 隔音减震装置 | 第37-38页 |
2.7 调试结果与讨论 | 第38-39页 |
2.8 小结 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-41页 |
第三章 高稳定与高重复电化学扫描隧道显微研制 | 第41-75页 |
3.1 电化学扫描隧道显微镜简介 | 第41-43页 |
3.1.1 概述 | 第41-42页 |
3.1.2 电化学STM隧道理论 | 第42-43页 |
3.2 STM成像的影响因素和设计考虑 | 第43-44页 |
3.2.1 溶液影响 | 第43页 |
3.2.2 漂移 | 第43-44页 |
3.2.3 工作电位 | 第44页 |
3.2.4 清洁、气氛可控 | 第44页 |
3.3 电解池的设计 | 第44-47页 |
3.3.1. O形圈密封的电解池结构 | 第45-46页 |
3.3.2. 自制的石英电解池 | 第46-47页 |
3.4 恒电位仪的搭建 | 第47-53页 |
3.4.1 电化学三电极体系简介 | 第47-48页 |
3.4.2 恒电位仪工作原理 | 第48-49页 |
3.4.3 实际工作的恒电位仪的设计要求 | 第49-50页 |
3.4.4 两种常用的恒电位仪电路 | 第50-51页 |
3.4.5 电化学STM中双恒电位仪结构 | 第51-53页 |
3.5 电化学扫描隧道显微镜针尖的制备 | 第53-61页 |
3.5.1 电化学扫描遂道显微镜针尖的特点 | 第53-54页 |
3.5.2 钨针尖的制备 | 第54-58页 |
3.5.3 机械剪切法制备针尖 | 第58页 |
3.5.4 针尖的绝缘包封 | 第58-61页 |
3.6 电化学STM的隔音、减震装置搭建 | 第61-63页 |
3.7 测试结果 | 第63-67页 |
3.8 电化学STM的改进 | 第67-72页 |
3.9 小结 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-75页 |
第四章 液滴状单晶电极电解池的设计 | 第75-90页 |
4.1 引言 | 第75页 |
4.2 Clavilier方法制备Pt单晶电极 | 第75-78页 |
4.2.1. 制备液滴单晶电极 | 第75-76页 |
4.2.2 单晶面定向 | 第76-77页 |
4.2.3. 固定单晶 | 第77页 |
4.2.4. 单晶的研磨抛光 | 第77页 |
4.2.5. 单晶的退火处理 | 第77-78页 |
4.3 Pt单晶电极的处理方法 | 第78-80页 |
4.4 电解池的设计 | 第80-83页 |
4.4.1. 双石英管电解池 | 第81-82页 |
4.4.2 高透明石英电解池 | 第82-83页 |
4.5 集气瓶系统 | 第83-84页 |
4.6 单晶面的对准 | 第84-87页 |
4.7 实验结果 | 第87-88页 |
4.8 小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-90页 |
第五章 基于Labview的电化学STM软件控制系统的搭建 | 第90-100页 |
5.1 Labview简介 | 第90页 |
5.2 电化学恒电位仪控制软件 | 第90-91页 |
5.3 电化学STM控制软件 | 第91-98页 |
5.4 小结 | 第98-99页 |
参考文献 | 第99-100页 |
第六章 借助ECSTM对石墨烯进行原位修饰和表征的设想和尝试 | 第100-111页 |
6.1 引言 | 第100-101页 |
6.2 石墨烯的制备 | 第101-107页 |
6.2.1 大面积石墨烯和制备和表征 | 第101-105页 |
6.2.2 氧化石墨烯的制备 | 第105-107页 |
6.3 问题分析和小结 | 第107-109页 |
参考文献 | 第109-111页 |
在读期间发表的论文及取得的研究成果 | 第111-112页 |
致谢 | 第112-113页 |