| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 改良西门子法生产多晶硅工艺 | 第11-13页 |
| 1.3 尾气干法回收和氯硅烷精馏 | 第13-15页 |
| 1.3.1 尾气干法回收 | 第13-14页 |
| 1.3.2 氯硅烷精馏提纯 | 第14-15页 |
| 1.4 精馏节能技术 | 第15-19页 |
| 1.4.1 预热进料 | 第16页 |
| 1.4.2 多效精馏 | 第16-19页 |
| 1.5 文献综述 | 第19-22页 |
| 1.5.1 HCl 吸收-解吸研究进展 | 第19页 |
| 1.5.2 多效精馏研究进展 | 第19-21页 |
| 1.5.3 精馏控制研究进展 | 第21-22页 |
| 1.6 化工模拟简介 | 第22-24页 |
| 1.6.1 Aspen Plus 与 Aspen Dynamics 简介 | 第22-23页 |
| 1.6.2 流程模拟技术在化工中的应用 | 第23-24页 |
| 1.7 课题意义、目的和主要内容 | 第24-25页 |
| 1.7.1 意义和目的 | 第24页 |
| 1.7.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 传统 HCl 吸收-解吸流程稳态模拟与改进 | 第25-37页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 流程模拟建立 | 第25-26页 |
| 2.2.1 系统分离要求 | 第26页 |
| 2.2.2 物性方法选择 | 第26页 |
| 2.2.3 主要模块选择 | 第26页 |
| 2.3 吸收塔模拟 | 第26-29页 |
| 2.3.1 吸收塔压对 HCl 捕获率和吸收塔净化气 H2纯度的影响 | 第27-28页 |
| 2.3.2 吸收塔理论板数的影响 | 第28页 |
| 2.3.3 液气比和吸收剂温度的影响 | 第28-29页 |
| 2.4 解吸塔模拟 | 第29-34页 |
| 2.4.1 解吸塔压选取 | 第30页 |
| 2.4.2 DSTWU 简捷计算 | 第30-31页 |
| 2.4.3 HCl 回收率选取 | 第31-32页 |
| 2.4.4 进料板位置选取 | 第32页 |
| 2.4.5 塔板数选取 | 第32-34页 |
| 2.5 HCl 吸收-解吸改进工艺流程 | 第34-36页 |
| 2.5.1 解吸塔进料热状况的影响 | 第34-35页 |
| 2.5.2 Heat-Ex 富液出口温度对系统投资费用和操作费用的影响 | 第35-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 HCl 吸收-解吸系统改进流程控制性能研究 | 第37-47页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 自由度和控制变量分析 | 第37-38页 |
| 3.3 塔基和回流罐尺寸计算 | 第38页 |
| 3.4 灵敏板选取 | 第38-40页 |
| 3.4.1 斜率准则 | 第38-39页 |
| 3.4.2 灵敏度准则 | 第39-40页 |
| 3.5 相对增益矩阵分析 | 第40-41页 |
| 3.6 控制结构 2 闭环动态响应分析 | 第41-46页 |
| 3.6.1 进料流量扰动对控制指标的影响 | 第42-44页 |
| 3.6.2 进料组成扰动对控制指标的影响 | 第44-46页 |
| 3.7 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 还原氯硅烷双效精馏过程设计 | 第47-57页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 设计依据 | 第48-49页 |
| 4.2.1 分离任务 | 第48-49页 |
| 4.2.2 模拟条件 | 第49页 |
| 4.3 PRE 塔模拟 | 第49-51页 |
| 4.3.1 回流比对 PRE 塔分离效果的影响 | 第50页 |
| 4.3.2 进料板位置对 PRE 塔分离效果的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.3 蒸馏速率对 PRE 塔分离效果的影响 | 第51页 |
| 4.4 LP 塔参数优化 | 第51-55页 |
| 4.4.1 LP 塔回流比对分离效果的影响 | 第52页 |
| 4.4.2 LP 塔理论板数对分离效果的影响 | 第52-53页 |
| 4.4.3 LP 塔进料位置对分离效果的影响 | 第53页 |
| 4.4.4 LP 塔蒸馏速率对分离效果的影响 | 第53-55页 |
| 4.5 HP 塔参数确定 | 第55页 |
| 4.6 三塔双效精馏工艺评价 | 第55-56页 |
| 4.7 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论与展望 | 第57-59页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
