| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 膜分离技术 | 第11-12页 |
| 1.1.1 膜分离技术概述 | 第11页 |
| 1.1.2 膜分离技术种类 | 第11-12页 |
| 1.2 有机溶剂纳滤 | 第12-16页 |
| 1.2.1 有机溶剂纳滤简介 | 第12-14页 |
| 1.2.2 有机溶剂纳滤应用现状 | 第14-16页 |
| 1.3 有机溶剂纳滤膜 | 第16-23页 |
| 1.3.1 有机溶剂纳滤膜分离机理 | 第16-18页 |
| 1.3.2 有机溶剂纳滤膜材料研究现状 | 第18-22页 |
| 1.3.3 有机溶剂纳滤膜制备方法 | 第22-23页 |
| 1.4 有机溶剂纳滤膜微结构调控 | 第23-27页 |
| 1.4.1 膜耐溶剂性能优化 | 第23-26页 |
| 1.4.2 膜纳滤性能优化 | 第26-27页 |
| 1.5 论文选题意义与内容 | 第27-29页 |
| 2 实验部分 | 第29-36页 |
| 2.1 材料与装置 | 第29-31页 |
| 2.1.1 材料与试剂 | 第29-30页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第30-31页 |
| 2.2 膜的表征测试 | 第31-32页 |
| 2.2.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第31页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD) | 第31页 |
| 2.2.3 热重分析(TGA) | 第31页 |
| 2.2.4 机械性能分析 | 第31页 |
| 2.2.5 扫描电镜(SEM)和能谱分析(EDS) | 第31-32页 |
| 2.2.6 透射电子显微镜(TEM) | 第32页 |
| 2.2.7 原子力显微镜(AFM) | 第32页 |
| 2.2.8 静态接触角 | 第32页 |
| 2.3 膜的性能测试 | 第32-35页 |
| 2.3.1 耐溶剂性能 | 第32-33页 |
| 2.3.2 纳滤性能 | 第33-35页 |
| 2.4 小结 | 第35-36页 |
| 3 基于硅烷偶联剂改性的Ti_3C_2T_x制备复合膜 | 第36-54页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 Ti_3C_2T_x-M的合成和复合膜的制备 | 第37-38页 |
| 3.2.1 Ti_3C_2T_x-M的合成 | 第37-38页 |
| 3.2.2 复合膜的制备 | 第38页 |
| 3.3 Ti_3C_2T_x-M的表征 | 第38-40页 |
| 3.4 PAN/PEI-Ti_3C_2T_x-M的表征与测试 | 第40-47页 |
| 3.4.1 膜的微观结构 | 第40-41页 |
| 3.4.2 膜的物化性质 | 第41-43页 |
| 3.4.3 膜的亲/疏水性和耐溶剂性能 | 第43-45页 |
| 3.4.4 膜的纳滤性能 | 第45-47页 |
| 3.5 PAN/PDMS-Ti_3C_2T_x-M的表征与测试 | 第47-52页 |
| 3.5.1 膜的微观结构和物化性质 | 第47-49页 |
| 3.5.2 膜的亲/疏水性和耐溶剂性能 | 第49-51页 |
| 3.5.3 膜的纳滤性能 | 第51-52页 |
| 3.6 小结 | 第52-54页 |
| 4 基于环糊精改性的Ti_3C_2T_x制备复合膜 | 第54-68页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 Ti_3C_2T_x-X-CD的合成和复合膜的制备 | 第55-57页 |
| 4.2.1 Ti_3C_2T_x-X-CD的合成 | 第55-56页 |
| 4.2.2 复合膜的制备 | 第56-57页 |
| 4.3 Ti_3C_2T_x-X-CD的表征 | 第57-58页 |
| 4.4 PAN/PEI-Ti_3C_2T_x-X-CD的表征与测试 | 第58-66页 |
| 4.4.1 膜的微观结构 | 第58-59页 |
| 4.4.2 膜的物化性质 | 第59-62页 |
| 4.4.3 膜的亲/疏水性和耐溶剂性能 | 第62-64页 |
| 4.4.4 膜的纳滤性能 | 第64-66页 |
| 4.5 小结 | 第66-68页 |
| 5 结论与主要创新点 | 第68-70页 |
| 5.1 结论 | 第68-69页 |
| 5.2 主要创新点 | 第69页 |
| 5.3 研究展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
