曲面手机玻璃拋光工艺研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 抛光技术及发展现状 | 第12-14页 |
| 1.2.1 直接接触抛光 | 第12-13页 |
| 1.2.2 非接触抛光 | 第13-14页 |
| 1.3 有限元技术国内外发展现状 | 第14页 |
| 1.4 曲面玻璃抛光技术现状 | 第14-17页 |
| 1.4.1 磁流体抛光 | 第15页 |
| 1.4.2 柔性抛光垫抛光 | 第15-16页 |
| 1.4.3 喷砂法抛光 | 第16页 |
| 1.4.4 毛刷法抛光 | 第16-17页 |
| 1.5 课题研究目的和意义与主要内容 | 第17-19页 |
| 1.5.1 目的和意义 | 第17页 |
| 1.5.2 主要内容 | 第17-19页 |
| 2 高铝硅面板玻璃性能及磨抛机理研究 | 第19-33页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 高铝硅玻璃的性能 | 第19-24页 |
| 2.2.1 致密性 | 第19-22页 |
| 2.2.1.1 研究方法及步骤 | 第20页 |
| 2.2.1.2 结果分析 | 第20-22页 |
| 2.2.2 耐化性 | 第22-24页 |
| 2.2.2.1 研究方法及步骤 | 第22-24页 |
| 2.2.2.2 结果分析 | 第24页 |
| 2.3 CMP化学机械抛光 | 第24-31页 |
| 2.3.1 浸泡法研究去除机理 | 第26-31页 |
| 2.3.1.1 实验方法及设备 | 第27-30页 |
| 2.3.1.2 化学作用机理分析 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 3 抛光磨具的ANSYS/LS-DYNA仿真分析 | 第33-50页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 ANSYS/LS-DYNA发展历程 | 第34页 |
| 3.3 有限元分析方法 | 第34-36页 |
| 3.4 抛光丝与工件接触摩擦的有限元分析 | 第36-48页 |
| 3.4.1 仿真时应注意的问题 | 第37-38页 |
| 3.4.2 有限元模型的建立 | 第38-39页 |
| 3.4.3 网格划分 | 第39-40页 |
| 3.4.4 材料模型的选择 | 第40-41页 |
| 3.4.5 边界条件设置 | 第41-42页 |
| 3.4.6 求解 | 第42-43页 |
| 3.4.7 查看结果 | 第43-48页 |
| 3.4.8 结论 | 第48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 曲面手机玻璃抛光实验平台的构建 | 第50-64页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 抛光液的配制 | 第50-55页 |
| 4.2.1 配制原则 | 第50-53页 |
| 4.2.1.1 湿润性原则 | 第51-52页 |
| 4.2.1.2 表面张力原则 | 第52-53页 |
| 4.2.2 分散剂的选择 | 第53-54页 |
| 4.2.3 氧化剂的选择 | 第54页 |
| 4.2.4 PH值调节 | 第54-55页 |
| 4.2.5 去离子水系统 | 第55页 |
| 4.3 抛光磨具的制作 | 第55-60页 |
| 4.3.1 聚氨酯IPN的制备 | 第55页 |
| 4.3.2 纤维原料的选择 | 第55-56页 |
| 4.3.3 金刚石微粉粒径对抛光性能的影响与选择 | 第56-58页 |
| 4.3.4 抛光垫结合剂的制备 | 第58-59页 |
| 4.3.5 抛光丝的制作 | 第59-60页 |
| 4.4 抛光机的改造 | 第60-63页 |
| 4.4.1 玻璃工件安装方式 | 第60-61页 |
| 4.4.2 抛光刷盘的制作 | 第61-63页 |
| 4.4.2.1 刷板材料的选择 | 第61页 |
| 4.4.4.2 刷板的设计 | 第61-62页 |
| 4.4.4.3 抛光丝的粘结 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 5 曲面手机玻璃抛光实验研究 | 第64-75页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 实验准备 | 第64-66页 |
| 5.2.1 实验设备 | 第64-65页 |
| 5.2.1.1 抛光设备 | 第64-65页 |
| 5.2.1.2 表面检测设备 | 第65页 |
| 5.2.2 工件材料预加工 | 第65-66页 |
| 5.2.3 曲面手机玻璃的装夹 | 第66页 |
| 5.3 正交试验设计 | 第66-73页 |
| 5.3.3 极差分析 | 第67-73页 |
| 5.3.3.1 工艺参数对表面质量的影响 | 第68-70页 |
| 5.3.3.2 工艺参数对材料去除率的影响 | 第70-73页 |
| 5.3.4 抛光参数优化 | 第73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 6 总结与展望 | 第75-77页 |
| 6.1 总结 | 第75-76页 |
| 6.2 展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简历 | 第82页 |
