FBAR制备及应用研究
致谢 | 第4-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
縮略词表 | 第10-12页 |
目录 | 第12-14页 |
1 绪论 | 第14-28页 |
1.1 基本声波理论 | 第14-15页 |
1.2 压电效应与压电方程 | 第15-18页 |
1.3 FBAR概述 | 第18-22页 |
1.4 FBAR研究概况 | 第22-25页 |
1.5 论文研究内容与章节安排 | 第25-28页 |
2 FBAR制备工艺研究 | 第28-54页 |
2.1 FBAR制备工艺分析 | 第28-34页 |
2.2 体硅背刻蚀型FBAR制备 | 第34-39页 |
2.3 采用DRIE干法刻蚀制备背刻蚀型FBAR | 第39-49页 |
2.4 FBAR集成工艺研究 | 第49-51页 |
2.5 本章小结 | 第51-54页 |
3 FBAR紫外探测及电调FBAR研究 | 第54-76页 |
3.1 FBAR模型及仿真研究 | 第54-59页 |
3.2 FBAR紫外光测试及结果分析 | 第59-69页 |
3.3 直流电调FBAR及其测试与预测 | 第69-75页 |
3.4 本章小结 | 第75-76页 |
4 总结与展望 | 第76-78页 |
4.1 论文的主要内容 | 第76-77页 |
4.2 论文的不足之处 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
作者简历及在学期间的科研成果 | 第84页 |