| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 表面光整加工技术概述 | 第13-15页 |
| 1.2.1 表面光整加工技术定义 | 第13-14页 |
| 1.2.2 表面光整加工技术分类 | 第14-15页 |
| 1.3 课题研究背景和意义 | 第15-17页 |
| 1.3.1 课题的研究背景 | 第16页 |
| 1.3.2 课题研究意义 | 第16-17页 |
| 1.4 自由磨具光整加工的国内外研究现状 | 第17-21页 |
| 1.4.1 磁流体研磨 | 第17-18页 |
| 1.4.2 磨料流加工 | 第18-19页 |
| 1.4.3 磁辅助磨料流光整加工 | 第19页 |
| 1.4.4 液体磁性磨具光整加工 | 第19-20页 |
| 1.4.5 磁辅助气粒两相漩涡流光整加工 | 第20页 |
| 1.4.6 磁性磨粒光整加工 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第21-22页 |
| 1.5.2 研究目标 | 第22页 |
| 1.6 本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 粘弹性磁性磨具的模型及性能要求 | 第23-33页 |
| 2.1 粘弹性磁性磨具概述 | 第23页 |
| 2.2 粘弹性磁性磨具的流体模型及其数学模型 | 第23-29页 |
| 2.2.1 粘弹性磁性磨具所属流体模型 | 第23-25页 |
| 2.2.2 粘弹性磁性磨具数学模型 | 第25-29页 |
| 2.3 粘弹性磁性磨具的光整机理 | 第29-31页 |
| 2.3.1 从磨粒受力分析角度阐释光整机理 | 第29-30页 |
| 2.3.2 从光整过程角度阐释光整机理 | 第30-31页 |
| 2.4 粘弹性磁性磨具的整体性能要求 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 粘弹性磁性磨具的制备 | 第33-47页 |
| 3.1 粘弹性磁性磨具制备工艺流程 | 第33页 |
| 3.2 清洗粗化磨粒 | 第33-35页 |
| 3.3 磨料混合 | 第35-36页 |
| 3.4 基体制备 | 第36-43页 |
| 3.4.1 聚乙烯醇(PVA)基体制备 | 第37-39页 |
| 3.4.2 低粘度硅胶基体制备 | 第39-41页 |
| 3.4.3 PVC基体制备 | 第41-43页 |
| 3.4.4 PVC糊树脂基体制备 | 第43页 |
| 3.5 粘弹性磁性磨具制备 | 第43-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 粘弹性磁性磨具及载体特性分析 | 第47-55页 |
| 4.1 磨具及载体导热性与散热性 | 第47-51页 |
| 4.1.1 磨具导热模型建立 | 第47-48页 |
| 4.1.2 磨具导热系数公式计算 | 第48-50页 |
| 4.1.3 基体导热性与磨具散热性实验对比 | 第50-51页 |
| 4.2 磨具流动性 | 第51-53页 |
| 4.3 载体分散性 | 第53页 |
| 4.4 载体其它性能 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 粘弹性磁性磨具光整实验分析 | 第55-71页 |
| 5.1 粘弹性磁性磨具光整性能指标 | 第55页 |
| 5.2 粘弹性磁性磨具光整加工影响因素 | 第55-56页 |
| 5.3 实验装置 | 第56-57页 |
| 5.4 粘弹性磁性磨具光整实验研究 | 第57-69页 |
| 5.4.1 三种基体制备的粘弹性磁性磨具的光整实验对比 | 第57-63页 |
| 5.4.2 PVC糊树脂粘弹性磁性磨具参数的确定 | 第63-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-75页 |
| 6.1 研究内容小结 | 第71-72页 |
| 6.2 本文主要创新点 | 第72-73页 |
| 6.3 前景展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间参与科研项目 | 第81页 |