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非磁金属掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究

目录第6-8页
CONTENTS第8-10页
摘要第10-12页
ABSTRACT第12-13页
符号说明第14-16页
第一章 绪论第16-30页
    1.1 磁性材料第16-19页
        1.1.1 磁性的起源及分类第16-18页
        1.1.2 磁性材料的种类第18页
        1.1.3 有机磁性材料第18-19页
    1.2 有机自旋电子学第19-28页
        1.2.1 有机半导体材料第22-23页
        1.2.2 有机自旋电子学器件发展第23-26页
        1.2.3 过渡金属掺杂有机小分子薄膜的磁性研究第26-28页
    1.3 本论文主要研究目的和内容第28-30页
第二章 样品的制备与测试第30-44页
    2.1 实验材料的准备第30页
    2.2 样品的制备第30-41页
        2.2.1 真空热蒸发镀膜原理第30-32页
        2.2.2 真空热蒸发镀膜设备第32-34页
        2.2.3 薄膜生长的厚度监测第34-35页
        2.2.4 薄膜生长过程第35-41页
    2.3 样品的测试第41-44页
        2.3.1 薄膜表面形貌测试第41-42页
        2.3.2 结构与成分测试第42页
        2.3.3 磁性测量第42-44页
第三章 非磁金属掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究第44-62页
    3.1 纯八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究第44-47页
    3.2 铝掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究第47-55页
    3.3 铜掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究第55-62页
第四章 结论与展望第62-64页
参考文献第64-70页
攻读硕士学位期间发表的论文目录及研究项目第70-72页
致谢第72-74页
附件第74页

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