非磁金属掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究
目录 | 第6-8页 |
CONTENTS | 第8-10页 |
摘要 | 第10-12页 |
ABSTRACT | 第12-13页 |
符号说明 | 第14-16页 |
第一章 绪论 | 第16-30页 |
1.1 磁性材料 | 第16-19页 |
1.1.1 磁性的起源及分类 | 第16-18页 |
1.1.2 磁性材料的种类 | 第18页 |
1.1.3 有机磁性材料 | 第18-19页 |
1.2 有机自旋电子学 | 第19-28页 |
1.2.1 有机半导体材料 | 第22-23页 |
1.2.2 有机自旋电子学器件发展 | 第23-26页 |
1.2.3 过渡金属掺杂有机小分子薄膜的磁性研究 | 第26-28页 |
1.3 本论文主要研究目的和内容 | 第28-30页 |
第二章 样品的制备与测试 | 第30-44页 |
2.1 实验材料的准备 | 第30页 |
2.2 样品的制备 | 第30-41页 |
2.2.1 真空热蒸发镀膜原理 | 第30-32页 |
2.2.2 真空热蒸发镀膜设备 | 第32-34页 |
2.2.3 薄膜生长的厚度监测 | 第34-35页 |
2.2.4 薄膜生长过程 | 第35-41页 |
2.3 样品的测试 | 第41-44页 |
2.3.1 薄膜表面形貌测试 | 第41-42页 |
2.3.2 结构与成分测试 | 第42页 |
2.3.3 磁性测量 | 第42-44页 |
第三章 非磁金属掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究 | 第44-62页 |
3.1 纯八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究 | 第44-47页 |
3.2 铝掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究 | 第47-55页 |
3.3 铜掺杂八羟基喹啉钴薄膜的磁性研究 | 第55-62页 |
第四章 结论与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
攻读硕士学位期间发表的论文目录及研究项目 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
附件 | 第74页 |