摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-16页 |
1.1 选题背景 | 第11-14页 |
1.1.1 毫米波传输线的研究现状 | 第12-13页 |
1.1.2 表面等离子体激元的研究现状 | 第13-14页 |
1.2 本文研究的主要内容 | 第14-15页 |
1.3 本文组织结构 | 第15-16页 |
第二章 表面等离子体激元的基本电磁理论 | 第16-24页 |
2.1 表面等离子体激元的介绍 | 第16-19页 |
2.1.1 表面等离子体激元的研究方法 | 第17页 |
2.1.2 表面等离子体的激发方式 | 第17-19页 |
2.2 表面等离子体激元的色散关系 | 第19-21页 |
2.2.1 色散公式的推导 | 第19-21页 |
2.2.2 表面等离子体激元的性质 | 第21页 |
2.3 表面等离子体激元的波长 | 第21页 |
2.4 表面等离子体激元的传播距离 | 第21-22页 |
2.5 本章小结 | 第22-24页 |
第三章 传统毫米波传输线的设计 | 第24-50页 |
3.1 毫米波传输线设计的主要参数 | 第24-28页 |
3.2 使用的仿真软件及工艺 | 第28-31页 |
3.2.1 Ansoft公司HFSS仿真软件介绍 | 第28页 |
3.2.2 CMOS工艺介绍 | 第28-31页 |
3.3 CMOS工艺下传统传输线的设计 | 第31-46页 |
3.3.1 MS结构 | 第33-35页 |
3.3.2 CPW结构 | 第35-38页 |
3.3.3 GCPW结构 | 第38-41页 |
3.3.4 SCPW结构 | 第41-43页 |
3.3.5 FCPW结构 | 第43-46页 |
3.4 CMOS工艺下传统传输线的RLCG参数提取 | 第46-48页 |
3.4.1 几种传输线的RLCG参数 | 第46-47页 |
3.4.2 RLCG参数的对比分析 | 第47-48页 |
3.5 本章小结 | 第48-50页 |
第四章 基于SPPs的CMOS传输线设计 | 第50-63页 |
4.1 人工金属表面SPPs | 第50-52页 |
4.1.1 人工金属表面SPPs概述 | 第50-51页 |
4.1.2 人工金属表面SPPs的色散关系 | 第51-52页 |
4.2 BiCMOS工艺下SPPs传输线的设计 | 第52-61页 |
4.2.1 BiCMOS工艺介绍 | 第52-55页 |
4.2.2 SPPs传输线的设计 | 第55-57页 |
4.2.3 SPPs传输线的仿真结果 | 第57-60页 |
4.2.4 SPPs传输线的场图分析 | 第60-61页 |
4.3 本章小结 | 第61-63页 |
第五章 传输线的加工与测量结果分析 | 第63-72页 |
5.1 去嵌入的方法 | 第63-64页 |
5.2 测量结果 | 第64-71页 |
5.2.1 CPW的测量结果 | 第64-65页 |
5.2.2 GCPW的测量结果 | 第65-66页 |
5.2.3 SCPW的测量结果 | 第66-67页 |
5.2.4 FCPW的测量结果 | 第67-68页 |
5.2.5 MS的测量结果 | 第68-70页 |
5.2.6 SPPs传输线与其他传输线的对比 | 第70-71页 |
5.3 本章小结 | 第71-72页 |
第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
致谢 | 第78页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第78页 |