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电磁复合场协同激光同轴熔注对增强颗粒分布梯度的调控研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 绪论第12-30页
    1.1 课题研究意义第12-13页
    1.2 激光熔注技术研究进展第13-21页
        1.2.1 激光熔注技术的发展第13-17页
        1.2.2 熔注过程中的颗粒分布调控第17-20页
        1.2.3 激光熔注技术存在的主要问题第20-21页
    1.3 电磁辅助激光制造的研究进展第21-26页
        1.3.1 电磁辅助激光焊接第21-23页
        1.3.2 电磁辅助激光熔覆第23-24页
        1.3.3 电磁辅助激光制造的仿真研究进展第24-26页
        1.3.4 电磁场辅助激光制造技术存在的主要问题第26页
    1.4 课题主要研究内容和研究目标第26-30页
        1.4.1 课题主要研究内容第26-27页
        1.4.2 本课题的研究目标第27-28页
        1.4.3 本课题技术路线第28-30页
第2章 实验材料、方法及电磁复合场装置设计第30-46页
    2.1 实验材料第30-31页
        2.1.1 增强颗粒第30-31页
        2.1.2 基体第31页
    2.2 电磁复合场发生装置第31-42页
        2.2.1 磁场强度分析及磁极设计第31-37页
        2.2.2 试样绝缘方案第37-39页
        2.2.3 电场稳定性分析第39-40页
        2.2.4 大电流条件下的基体温升第40-42页
    2.3 电磁复合场协同激光熔注系统第42-44页
        2.3.1 激光发生器第42页
        2.3.2 粉末输送系统第42-43页
        2.3.3 运动控制系统第43页
        2.3.4 复合熔注系统第43-44页
    2.4 组织及性能分析第44-46页
        2.4.1 显微组织分析第44页
        2.4.2 熔注层物相及元素分析第44页
        2.4.3 显微硬度测试第44页
        2.4.4 耐磨性测试第44-45页
        2.4.5 宏观形貌测量第45-46页
第3章 激光同轴熔注WC增强颗粒工艺研究第46-64页
    3.1 增强颗粒温升模型的建立第46-49页
        3.1.1 基本假设和理论模型第46-48页
        3.1.2 计算方法及模型参数第48-49页
    3.2 增强颗粒温升模型的计算结果第49-56页
        3.2.1 增强颗粒速度分析结果第49-50页
        3.2.2 工艺参数与颗粒温升关系第50-53页
        3.2.3 颗粒温升模型的实验验证第53-56页
    3.3 其它熔注工艺参数探索第56-62页
        3.3.1 激光功率的优化探索第56-59页
        3.3.2 送粉率的优化探索第59-62页
    3.4 本章小结第62-64页
第4章 电磁复合场协同激光熔注的仿真研究第64-94页
    4.1 电磁复合场协同激光熔注关键物理过程分析第64-68页
        4.1.1 电磁场基本理论第64-65页
        4.1.2 熔池中的洛伦兹力分析第65-66页
        4.1.3 电磁场复合条件下熔池颗粒受力分析第66-68页
    4.2 仿真模型的建立第68-70页
        4.2.1 基体假设第68页
        4.2.2 控制方程第68-70页
    4.3 边界条件第70-75页
        4.3.1 表面张力边界第70-71页
        4.3.2 传热边界第71页
        4.3.3 熔池表面形貌第71页
        4.3.4 电流边界第71-72页
        4.3.5 其它边界条件第72-73页
        4.3.6 主要热物性参数第73-75页
    4.4 仿真计算结果分析第75-92页
        4.4.1 稳态磁场对熔池传热传质过程的影响第75-82页
        4.4.2 电磁复合场对熔池传热传质过程的影响第82-84页
        4.4.3 定向洛伦兹力和感应洛伦兹力的分布第84-87页
        4.4.4 颗粒属性对颗粒分布的影响第87-90页
        4.4.5 增强颗粒分布的仿真及实验对比第90-92页
    4.5 本章小结第92-94页
第5章 电磁复合场对激光熔注层颗粒分布梯度的调控第94-118页
    5.1 单纯稳态磁场协同激光熔注的颗粒分布第94-105页
        5.1.1 不同磁感应强度对熔注层表面形貌的影响第94-96页
        5.1.2 不同磁感应强度下熔注层截面的颗粒分布第96-100页
        5.1.3 稳态磁场对增强颗粒分布梯度的调控机理第100-105页
    5.2 电磁复合场协同激光熔注的颗粒分布第105-117页
        5.2.1 不同电磁复合场参数对熔注层表面形貌的影响第105-107页
        5.2.2 不同电磁复合场参数下熔注层截面的颗粒分布第107-113页
        5.2.3 电磁复合场对增强颗粒分布梯度的调控机理第113-117页
    5.3 本章小结第117-118页
第6章 电磁复合场协同作用下激光熔注层微观结构及性能分析第118-132页
    6.1 熔注层的微观组织及物相分析第118-126页
        6.1.1 熔注层的基本物相组成第118-119页
        6.1.2 颗粒分布梯度为负时的熔注层组织第119-125页
        6.1.3 颗粒分布梯度为正时的熔注层组织第125-126页
    6.2 熔注层的性能分析第126-131页
        6.2.1 熔注层硬度梯度分布第126-128页
        6.2.2 熔注层耐磨性测试及磨损机理第128-131页
    6.3 本章小结第131-132页
第7章 结论与展望第132-136页
    7.1 结论第132-133页
    7.2 创新点第133页
    7.3 展望第133-136页
参考文献第136-148页
致谢第148-149页
攻读学位期间参加的科研项目和成果第149-150页

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