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硼酸根和杂多酸修饰二氧化钛的光催化反应及机理研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第13-52页
    1.1 光催化概述第13-14页
    1.2 半导体光催化原理第14-16页
    1.3 光催化反应的影响因素第16-20页
        1.3.1 光强的影响第16页
        1.3.2 催化剂的性质和浓度的影响第16-17页
        1.3.3 底物性质和浓度的影响第17页
        1.3.4 溶液pH的影响第17-18页
        1.3.5 反应温度的影响第18-19页
        1.3.6 电子捕获剂的影响第19页
        1.3.7 无机离子的影响第19-20页
    1.4 TiO_2光催化概述第20-27页
        1.4.1 TiO_2的晶型结构第20-21页
        1.4.2 TiO_2的合成第21-23页
        1.4.3 TiO_2的光催化活性及其改进方法第23-27页
    1.5 TiO_2表面的阴离子修饰第27-29页
    1.6 杂多酸概述第29-33页
        1.6.1 杂多酸及铁取代杂多酸的结构第30-31页
        1.6.2 铁取代磷钨杂多酸的合成第31页
        1.6.3 杂多酸的光化学性质第31-32页
        1.6.4 杂多酸及铁取代杂多酸在TiO_2光催化领域的应用第32-33页
    1.7 论文选题依据及思路第33-34页
    参考文献第34-52页
第二章 B_4O_7~(2-)表面修饰TiO_2提高光催化降解有机物活性及机理第52-81页
    2.1 引言第52-53页
    2.2 实验部分第53-56页
        2.2.1 主要材料和试剂第53页
        2.2.2 催化剂的表征第53-54页
        2.2.3 光催化实验与分析第54页
        2.2.4 吸附实验第54-55页
        2.2.5 铬还原实验的测定第55页
        2.2.6 活性物种的检测第55-56页
        2.2.7 光电化学实验第56页
    2.3 结果与讨论第56-74页
        2.3.1 催化剂表征第56-57页
        2.3.2 光催化降解有机物第57-61页
        2.3.3 B_4O_7~(2-)浓度及pH的影响第61-64页
        2.3.4 不同离子影响的比较第64-66页
        2.3.5 铬还原实验第66-67页
        2.3.6 活性物种的测定第67-69页
        2.3.7 光电化学实验第69-72页
        2.3.8 反应机理探讨第72-74页
    2.4 结论第74-75页
    参考文献第75-81页
第三章 铁取代磷钨杂多酸表面修饰TiO_2光催化降解有机物活性的初步研究第81-94页
    3.1 引言第81-82页
    3.2 实验部分第82-83页
        3.2.1 主要材料和试剂第82页
        3.2.2 铁取代磷钨杂多酸的合成第82-83页
        3.2.3 催化剂的表征第83页
        3.2.4 光催化实验与分析第83页
    3.3 结果与讨论第83-90页
        3.3.1 催化剂表征第83-84页
        3.3.2 光催化降解有机物第84-87页
        3.3.3 PW_(11)Fe浓度及pH的影响第87-88页
        3.3.4 N_2条件下的苯酚降解实验第88-89页
        3.3.5 空气和N_2条件下苯酚降解实验的动力学分析第89-90页
    3.4 结论第90-91页
    参考文献第91-94页
第四章 结论与展望第94-96页
    4.1 研究结论第94-95页
    4.2 展望第95-96页
攻读硕士学位期间完成的学术论文第96-97页
致谢第97页

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