| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 真空镀膜技术的主要分类 | 第11-17页 |
| 1.2.1 阴极电弧离子镀 | 第11-13页 |
| 1.2.2 磁控溅射 | 第13-17页 |
| 1.3 气体放电伏安特性曲线 | 第17-19页 |
| 1.4 微弧放电区镀料粒子的脱靶方式及其电场诱发 | 第19-21页 |
| 1.4.1 微弧放电区镀料粒子的脱靶方式 | 第19-20页 |
| 1.4.2 微弧放电区的电场诱发 | 第20-21页 |
| 1.5 本文的研究意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验条件与实验方法 | 第23-29页 |
| 2.1 磁控溅射系统设备简介 | 第23页 |
| 2.2 实验用材及其前处理 | 第23-24页 |
| 2.3 镀层制备的工艺流程 | 第24页 |
| 2.4 镀层的结构与性能表征 | 第24-29页 |
| 2.4.1 厚度的测量 | 第24-25页 |
| 2.4.2 晶体结构的测定 | 第25页 |
| 2.4.3 微观形貌的观察 | 第25页 |
| 2.4.4 硬度及弹性模量的测定 | 第25-26页 |
| 2.4.5 膜基结合强度的测定 | 第26页 |
| 2.4.6 摩擦磨损性能的测定 | 第26-27页 |
| 2.4.7 耐腐蚀性能的测定 | 第27-29页 |
| 3 磁控阴极靶面微弧放电的诱发与调控 | 第29-39页 |
| 3.1 磁控溅射低离化率的原理性分析 | 第29-30页 |
| 3.2 微弧放电的诱发及镀料粒子的脱靶方式 | 第30-33页 |
| 3.2.1 微弧放电的诱发 | 第30-32页 |
| 3.2.2 镀料粒子的脱靶方式 | 第32-33页 |
| 3.3 微弧放电的非稳态特性与稳态维持 | 第33页 |
| 3.4 诱发与调控微弧放电的主要途径 | 第33-35页 |
| 3.5 诱发微弧放电的物理学条件 | 第35页 |
| 3.6 气体放电伏安特性曲线的测定 | 第35-37页 |
| 3.7 不同伏安特性气体放电区间的靶面形貌 | 第37-39页 |
| 4 直流电场微弧区间伏安特性对纯Ti镀层结构与性能的影响 | 第39-59页 |
| 4.1 直流电场不同伏安特性放电区间对纯Ti镀层结构与性能的影响 | 第39-50页 |
| 4.1.1 厚度的均匀性及沉积速率 | 第40-42页 |
| 4.1.2 微观形貌及生长模式 | 第42-45页 |
| 4.1.3 晶体结构 | 第45-48页 |
| 4.1.4 膜基结合强度 | 第48-50页 |
| 4.2 微弧区间基体偏压对纯Ti镀层结构与性能的影响 | 第50-57页 |
| 4.2.1 厚度的均匀性 | 第51-52页 |
| 4.2.2 微观形貌及生长模式 | 第52-53页 |
| 4.2.3 晶体结构 | 第53-55页 |
| 4.2.4 膜基结合强度 | 第55-56页 |
| 4.2.5 耐腐蚀性能 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 5 脉冲电场微弧区间伏安特性对纯Ti镀层结构与性能的影响 | 第59-93页 |
| 5.1 脉冲电场不同伏安特性放电区间对纯Ti镀层结构与性能的影响 | 第59-69页 |
| 5.1.1 气体放电伏安特性曲线 | 第59-60页 |
| 5.1.2 厚度的均匀性及沉积速率 | 第60-62页 |
| 5.1.3 微观形貌及生长模式 | 第62-65页 |
| 5.1.4 晶体结构 | 第65-67页 |
| 5.1.5 膜基结合强度 | 第67-69页 |
| 5.2 微弧区间不同电场模式对纯Ti镀层微观结构及性能的影响 | 第69-80页 |
| 5.2.1 厚度的均匀性及镀料粒子的离化率 | 第70-72页 |
| 5.2.2 微观形貌及生长模式 | 第72-75页 |
| 5.2.3 晶体结构 | 第75-76页 |
| 5.2.4 膜基结合强度 | 第76-78页 |
| 5.2.5 力学性能 | 第78页 |
| 5.2.6 耐腐蚀性能 | 第78-80页 |
| 5.3 双脉冲电场微弧区间峰值靶电流密度对纯Ti镀层结构及性能的影响 | 第80-90页 |
| 5.3.1 厚度的均匀性及镀料粒子的离化率 | 第80-82页 |
| 5.3.2 微观形貌及生长模式 | 第82-85页 |
| 5.3.3 晶体结构 | 第85-87页 |
| 5.3.4 膜基结合强度 | 第87-88页 |
| 5.3.5 力学性能 | 第88-89页 |
| 5.3.6 耐腐蚀性能 | 第89-90页 |
| 5.4 本章小结 | 第90-93页 |
| 6 脉冲电场微弧区间伏安特性对TiN镀层结构与性能的影响 | 第93-119页 |
| 6.1 不同伏安特性放电区间对TiN镀层结构与性能的影响 | 第93-105页 |
| 6.1.1 沉积速率及镀料粒子的离化率 | 第93-95页 |
| 6.1.2 微观形貌及生长模式 | 第95-97页 |
| 6.1.3 晶体结构 | 第97-100页 |
| 6.1.4 力学性能 | 第100-101页 |
| 6.1.5 膜基结合强度 | 第101-102页 |
| 6.1.6 摩擦学性能 | 第102-103页 |
| 6.1.7 耐腐蚀性能 | 第103-105页 |
| 6.2 双脉冲电场微弧区间峰值靶电流密度对TiN镀层结构及性能的影响 | 第105-116页 |
| 6.2.1 微观形貌及生长模式 | 第105-108页 |
| 6.2.2 沉积速率 | 第108-109页 |
| 6.2.3 晶体结构 | 第109-111页 |
| 6.2.4 力学性能 | 第111-112页 |
| 6.2.5 膜基结合强度 | 第112-114页 |
| 6.2.6 摩擦学性能 | 第114-115页 |
| 6.2.7 耐腐蚀性能 | 第115-116页 |
| 6.3 本章小结 | 第116-119页 |
| 7 结论 | 第119-121页 |
| 论文的主要创新与贡献 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-133页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第133页 |
