摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-25页 |
1.1 钛硅分子筛的合成与改性 | 第10-14页 |
1.1.1 钛硅分子筛的结构特点 | 第10-11页 |
1.1.2 TS-1的合成 | 第11-14页 |
1.1.3 钛硅分子筛的改性 | 第14页 |
1.2 钛硅分子筛的物性表征 | 第14-17页 |
1.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第14-15页 |
1.2.2 紫外可见反射光谱(UV-Vis) | 第15页 |
1.2.3 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第15-16页 |
1.2.4 扫描/透射电子显微镜(SEM/TEM) | 第16页 |
1.2.5 拉曼光谱(Raman) | 第16-17页 |
1.2.6 X光电子能谱(XPS) | 第17页 |
1.3 环氧丙烷 | 第17-22页 |
1.3.1 环氧丙烷概述 | 第17页 |
1.3.2 环氧丙烷生产技术 | 第17-22页 |
1.4 钛硅分子筛TS-1催化丙烯环氧化研究 | 第22-24页 |
1.4.1 TS-1催化丙烯环氧化反应机理 | 第22页 |
1.4.2 TS-1催化剂的成型 | 第22-23页 |
1.4.3 TS-1催化剂的失活研究 | 第23页 |
1.4.4 TS-1催化剂的再生研究 | 第23-24页 |
1.5 课题选择 | 第24-25页 |
2 实验部分 | 第25-29页 |
2.1 实验试剂 | 第25-26页 |
2.2 TS-1的制备及挤条成型 | 第26页 |
2.2.1 TS-1的制备 | 第26页 |
2.2.2 催化剂的挤条成型 | 第26页 |
2.3 钛硅分子筛TS-1的物性表征 | 第26-27页 |
2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第26页 |
2.3.2 紫外可见漫反射光谱(UV-Vis) | 第26-27页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
2.3.4 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第27页 |
2.4 丙烯环氧化反应 | 第27-29页 |
2.4.1 间歇釜反应 | 第27页 |
2.4.2 固定床反应 | 第27页 |
2.4.3 产物分析 | 第27页 |
2.4.4 丙烯环氧化反应评价指标 | 第27-29页 |
3 廉价体系中小晶粒TS-1的合成及其性能评价 | 第29-45页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 小晶粒TS-1的合成 | 第29页 |
3.3 胶体晶种陈化温度的影响 | 第29-34页 |
3.3.1 不同陈化温度的胶体晶种的XRD谱图 | 第29-30页 |
3.3.2 TS-1的表征结果 | 第30-33页 |
3.3.3 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第33-34页 |
3.4 晶化时间的影响 | 第34-37页 |
3.4.1 TS-1的表征结果 | 第34-37页 |
3.4.2 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第37页 |
3.5 碱性添加剂用量的影响 | 第37-40页 |
3.5.1 TS-1的表征结果 | 第37-39页 |
3.5.2 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第39-40页 |
3.6 小晶粒TS-1催化丙烯环氧化固定床反应性能评价 | 第40-44页 |
3.6.1 C_3H_6/H_2O_2摩尔比的影响 | 第40-41页 |
3.6.2 丙烯空速的影响 | 第41页 |
3.6.3 反应温度的影响 | 第41-42页 |
3.6.4 丙烯环氧化固定床反应前后催化剂的表征 | 第42-44页 |
3.7 小结 | 第44-45页 |
4 无TPABr体系中TS-1的合成及其性能评价 | 第45-54页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 无TPABr体系中TS-1的合成 | 第45页 |
4.3 有机胺的影响 | 第45-48页 |
4.3.1 TS-1的表征 | 第45-47页 |
4.3.2 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第47-48页 |
4.4 胶体晶种用量的影响 | 第48-51页 |
4.4.1 TS-1的表征 | 第48-50页 |
4.4.2 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第50-51页 |
4.5 碱性添加剂用量的影响 | 第51-53页 |
4.5.1 TS-1的表征 | 第51-53页 |
4.5.2 丙烯环氧化间歇釜反应性能评价 | 第53页 |
4.6 小结 | 第53-54页 |
结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |