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InP基含锑(Sb)基区DHBT器件性能研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 绪论第11-26页
    1.1 HBT概述第11-12页
    1.2 HBT结构与工作原理第12-14页
        1.2.1 BJT结构与原理第12-13页
        1.2.2 HBT材料结构与工作原理第13-14页
    1.3 衡量HBT器件性能的主要电学参数第14-16页
    1.4 HBT材料体系与结构改进第16-20页
        1.4.1 HBT材料体系第16-18页
        1.4.2 HBT的结构改进第18-20页
    1.5 InP基锑化物基区HBT研究历史和现状第20-24页
        1.5.1 InP/GaAsSb/InP DHBT的提出第20-22页
        1.5.2 InP基锑化物基区DHBT的发展第22-24页
    1.6 本文研究意义及内容安排第24-26页
第2章 器件模型理论和GaAsSb材料特性第26-43页
    2.1 引言第26-27页
    2.2 弛豫时间近似下求解玻耳兹曼输运方程第27-32页
        2.2.1 玻耳兹曼方程第27-28页
        2.2.2 弛豫时间近似第28-29页
        2.2.3 电流密度和能流密度方程第29-32页
    2.3 能量平衡模型与流体动力学模型第32-34页
    2.4 材料参数模型第34-37页
        2.4.1 载流子复合模型第35-36页
        2.4.2 碰撞电离模型第36页
        2.4.3 载流子迁移率模型第36-37页
    2.5 GaAsSb材料特性第37-42页
        2.5.1 晶体结构和晶格匹配第38页
        2.5.2 能带参数第38-40页
        2.5.3 有效质量和有效状态密度第40页
        2.5.4 载流子迁移率第40-41页
        2.5.5 载流子寿命第41页
        2.5.6 热导率与热阻第41-42页
    2.6 本章小结第42-43页
第3章 InP/GaAsSb/InP DHBT性能分析第43-50页
    3.1 引言第43页
    3.2 器件结构和模型第43-45页
    3.3 不同器件物理模型的结果与分析第45-49页
    3.4 本章小结第49-50页
第4章 InP/InGaAs/GaAsSb/InP DHBT性能分析第50-64页
    4.1 引言第50页
    4.2 具有InGaP缓变结构的InP/GaAsSb/InP DHBT器件性能分析第50-57页
        4.2.1 器件结构和模型第50-52页
        4.2.2 缓变发射结InP/GaAsSb/InP DHBT器件结果与分析第52-57页
    4.3 As组分缓变基区InP/InGaP/GaAsSb/InP DHBT器件热电性能分析第57-63页
        4.3.1 器件结构与模型第57-58页
        4.3.2 缓变基区InP/InGaP/GaAsSb/InP DHBT器件结果与分析第58-63页
    4.4 本章小结第63-64页
第5章 InP/InGaAsSb/InGaAs DHBT性能分析第64-70页
    5.1 引言第64页
    5.2 器件结构与模型第64-65页
    5.3 InP/1nGaAsSb/InGaAs DHBT器件结果与分析第65-69页
    5.4 本章小结第69-70页
第6章 总结与展望第70-72页
    6.1 总结第70-71页
    6.2 展望第71-72页
参考文献第72-77页
致谢第77-78页
攻读硕士学位期间录用和发表的论文第78页

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