| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 1 引言 | 第11-15页 |
| 1.1 石墨烯的研究历史 | 第11页 |
| 1.2 石墨烯的早期研究 | 第11-12页 |
| 1.3 CVD石墨烯的研究历史 | 第12-13页 |
| 1.4 石墨烯的应用潜力 | 第13-15页 |
| 2 石墨烯薄膜的电学特性 | 第15-21页 |
| 2.1 石墨烯基的本能带结构——紧束缚近似 | 第15-17页 |
| 2.2 石墨烯独特的输运性质---反常量子霍尔效应 | 第17-21页 |
| 3 CVD石墨烯薄膜样品的研究与表征方法 | 第21-26页 |
| 3.1 拉曼光谱简表征石墨烯薄膜 | 第21-23页 |
| 3.2 扫描电子显微镜表征石墨烯薄膜 | 第23-24页 |
| 3.3 偏光显微镜测量 | 第24-26页 |
| 4 铜基CVD方法制备单层石墨烯薄膜 | 第26-48页 |
| 4.1 铜基催化剂制备大面积石墨烯薄膜 | 第27-32页 |
| 4.1.1 实验用的仪器设备及原料的选定 | 第27-28页 |
| 4.1.2 铜基生长石墨烯薄膜的内部机理 | 第28-30页 |
| 4.1.3 实验过程 | 第30-31页 |
| 4.1.4 实验结果 | 第31-32页 |
| 4.2 关于铜基CVD石墨烯薄膜生长条件的讨论 | 第32-40页 |
| 4.2.1 铜箔表面处理对石墨烯生长的影响 | 第32-35页 |
| 4.2.2 气体流量对石墨烯生长的影响 | 第35-37页 |
| 4.2.3 生长时间对石墨烯生长的影响 | 第37-38页 |
| 4.2.4 生长温度对石墨烯生长的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.5 最优生长条件 | 第39-40页 |
| 4.3 转移铜箔上生长的石墨烯薄膜 | 第40-42页 |
| 4.4 关于石墨烯薄膜破损的修复 | 第42-43页 |
| 4.5 修复后石墨烯薄膜的表征 | 第43-45页 |
| 4.6 CVD石墨烯薄膜的应用前景 | 第45-48页 |
| 4.6.1 透明电导 | 第45-46页 |
| 4.6.2 海水淡化 | 第46-47页 |
| 4.6.3 其他应用 | 第47-48页 |
| 5 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 作者简历 | 第53-55页 |
| 学位论文数据集 | 第55页 |