摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 介晶纳米材料的研究现状 | 第9-14页 |
1.2.1 介晶纳米材料的定义及性质概述 | 第9-10页 |
1.2.2 介晶纳米材料的合成方法及机理 | 第10-11页 |
1.2.3 介晶纳米材料的应用 | 第11-14页 |
1.3 气敏材料领域的研究现状 | 第14-19页 |
1.3.1 气敏机理 | 第14-16页 |
1.3.2 气敏性能的评价参数 | 第16-17页 |
1.3.3 气敏性能的影响因素 | 第17-19页 |
1.4 激光液相烧蚀法合成纳米材料研究进展 | 第19-23页 |
1.4.1 激光法的特点和作用机制 | 第19-21页 |
1.4.2 激光法合成纳米材料概述 | 第21-23页 |
1.5 课题的提出及创新之处 | 第23-25页 |
1.5.1 课题的提出 | 第23页 |
1.5.2 研究内容 | 第23-24页 |
1.5.3 创新之处 | 第24-25页 |
第二章 实验原料与装置 | 第25-32页 |
2.1 实验原料 | 第25页 |
2.2 实验设备 | 第25-27页 |
2.2.1 纳秒脉冲激光器 | 第25-26页 |
2.2.2 恒温磁力搅拌器 | 第26页 |
2.2.3 超声波清洗仪 | 第26-27页 |
2.2.4 高速冷冻离心机 | 第27页 |
2.2.5 电子天平 | 第27页 |
2.2.6 恒温热烘箱 | 第27页 |
2.3 表征设备 | 第27-29页 |
2.3.1 透射电子显微镜(TEM) | 第27-28页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
2.3.3 X射线衍射仪(XRD) | 第28页 |
2.3.4 Zeta电位仪 | 第28页 |
2.3.5 X射线光电子能谱分析仪(XPS) | 第28-29页 |
2.3.6 氮气吸附比表面积分析仪(BET) | 第29页 |
2.3.7 智能气敏测试分析仪 | 第29页 |
2.3.8 能量计 | 第29页 |
2.4 实验过程 | 第29-30页 |
2.5 DFT理论计算 | 第30-32页 |
第三章 激光绿色合成介晶CuO | 第32-43页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 Cu_2O纳米颗粒前驱体的制备 | 第32-33页 |
3.3 Cu_2O纳米颗粒氧化组装制备介晶CuO | 第33-34页 |
3.4 介晶CuO自组装机理研究 | 第34-41页 |
3.4.1 介晶CuO组装生长方向 | 第34-35页 |
3.4.2 Cu_2O纳米颗粒氧化组装过程中的zeta电位变化 | 第35-37页 |
3.4.3 CuO各暴露晶面的原子分布 | 第37-38页 |
3.4.4 介晶CuO自组装过程 | 第38-41页 |
3.4.5 介晶CuO组装机理对比实验 | 第41页 |
3.5 本章小结 | 第41-43页 |
第四章 加热法合成单晶及多晶CuO | 第43-47页 |
4.1 引言 | 第43页 |
4.2 加热法合成单晶CuO | 第43-44页 |
4.3 加热法合成多晶CuO | 第44-45页 |
4.4 本章小结 | 第45-47页 |
第五章 介晶CuO纳米材料的气敏性能及机理对比研究 | 第47-61页 |
5.1 引言 | 第47页 |
5.2 介晶、单晶、多晶CuO气敏性能对比研究 | 第47-52页 |
5.2.1 气敏测试器件制备及方法 | 第47-48页 |
5.2.2 介晶、单晶、多晶CuO气敏响应灵敏度对比 | 第48-49页 |
5.2.3 介晶、单晶、多晶CuO气敏响应恢复时间对比 | 第49页 |
5.2.4 介晶CuO与其它结构CuO的气敏响应灵敏度的对比 | 第49-50页 |
5.2.5 介晶、单晶、多晶CuO对其它还原性气体的气敏性能研究 | 第50-51页 |
5.2.6 介晶、单晶、多晶CuO对乙醇气敏选择性 | 第51-52页 |
5.3 介晶CuO纳米材料的气敏性能提高机理 | 第52-60页 |
5.3.1 元素成分、价态 | 第52页 |
5.3.2 比表面积分析 | 第52-53页 |
5.3.3 氧空位分析 | 第53-54页 |
5.3.4 比表面积与氧空位综合作用的理论计算 | 第54-55页 |
5.3.5 加入Na Cl得到分散的CuO纳米颗粒的气敏性能 | 第55页 |
5.3.6 介晶、单晶、多晶CuO晶体结构对气敏性能的影响 | 第55-60页 |
5.4 本章小结 | 第60-61页 |
第六章 结论与展望 | 第61-63页 |
6.1 全文结论 | 第61页 |
6.2 展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-71页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-74页 |