摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
注释表 | 第10-12页 |
1 绪论 | 第12-19页 |
1.1 选题研究背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 半透明材料光谱辐射特性方法研究现状 | 第13-17页 |
1.2.1 常温半透明材料光谱辐射特性方法研究现状 | 第13-16页 |
1.2.2 高温半透明材料光谱辐射特性方法研究现状 | 第16-17页 |
1.3 本文研究主要内容 | 第17-19页 |
2 半透明固体材料光谱辐射特性参数的测量方法 | 第19-26页 |
2.1 高温下半透明固体材料辐射特性参数的测量方法 | 第19-22页 |
2.2 常温半透明固体材料光谱辐射特性的测量方法 | 第22-25页 |
2.2.1 反问题目标函数构造 | 第22-24页 |
2.2.2 反演方法 | 第24-25页 |
2.3 本章小结 | 第25-26页 |
3 半透明固体材料光谱发射率测量方法 | 第26-34页 |
3.1 移动样品法原理 | 第26-28页 |
3.2 双基底法原理 | 第28-30页 |
3.3 发射率测量原理 | 第30-31页 |
3.4 样品表面温度测量方法 | 第31-33页 |
3.5 本章小结 | 第33-34页 |
4 高温半透明固体材料光谱发射率测量系统 | 第34-47页 |
4.1 光谱发射率系统简介 | 第34-35页 |
4.2 傅立叶红外光谱仪 | 第35页 |
4.3 样品加热装置 | 第35-40页 |
4.3.1 加热装置设计 | 第35-36页 |
4.3.2 加热装置的数值模拟 | 第36-40页 |
4.3.3 加热装置温度均匀性实验验证 | 第40页 |
4.4 参考黑体炉 | 第40-41页 |
4.5 光路转换装置 | 第41页 |
4.6 红外积分球 | 第41-42页 |
4.7 光谱仪附件A540装置 | 第42页 |
4.8 碳化硅样品光谱发射率实验 | 第42-46页 |
4.8.1 实验步骤 | 第42-43页 |
4.8.2 开口黑体辐射源不同温度下的光谱信号曲线 | 第43页 |
4.8.3 傅立叶红外光谱仪检测器标定 | 第43-44页 |
4.8.4 碳化硅样品测量及数据分析 | 第44-46页 |
4.9 本章小结 | 第46-47页 |
5 典型半透明固体材料的光谱发射率测量 | 第47-63页 |
5.1 移动样品法测量材料发射率 | 第47-50页 |
5.2 双基底法求半透明固体材料光谱发射率 | 第50-57页 |
5.2.1 光谱仪附件A540装置测量材料发射率 | 第50-54页 |
5.2.2 电加热装置测量材料发射率 | 第54-57页 |
5.3 实验数据对比分析 | 第57-60页 |
5.3.1 A540装置和电加热装置实验数据(双基底原理) | 第58-59页 |
5.3.2 双基底法及移动样品法实验数据(电加热装置) | 第59-60页 |
5.4 实验结果不确定度分析 | 第60-62页 |
5.5 本章小结 | 第62-63页 |
6 半透明固体材料光谱辐射特性分析 | 第63-68页 |
6.1 常温半透明固体材料光谱辐射特性分析 | 第63-65页 |
6.2 高温半透明固体材料光谱辐射特性分析 | 第65-67页 |
6.3 本章小结 | 第67-68页 |
7 结论 | 第68-70页 |
7.1 全文总结 | 第68-69页 |
7.2 本论文的创新之处 | 第69页 |
7.3 研究展望 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |