摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 课题研究背景 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究现状及分析 | 第11-17页 |
1.2.1 TiO_2概述 | 第11-12页 |
1.2.2 TiO_2纳米管的制备 | 第12-14页 |
1.2.2.1 模板合成法 | 第12页 |
1.2.2.2 水热合成法 | 第12-13页 |
1.2.2.3 溶胶凝胶法 | 第13页 |
1.2.2.4 阳极氧化法 | 第13-14页 |
1.2.3 提高TiO_2纳米管性能的途径 | 第14-17页 |
1.2.3.1 热处理 | 第14-15页 |
1.2.3.2 金属和非金属掺杂 | 第15-16页 |
1.2.3.3 贵金属沉积 | 第16页 |
1.2.3.4 半导体复合修饰 | 第16-17页 |
1.3 主要研究内容 | 第17-19页 |
第2章 实验设计与测试方法 | 第19-26页 |
2.1 引言 | 第19页 |
2.2 实验材料 | 第19页 |
2.3 实验设备和仪器 | 第19-20页 |
2.4 材料制备方法和实验原理 | 第20-23页 |
2.4.1 TiO_2纳米管的制备方法 | 第20-22页 |
2.4.2 Cu-Ti-O纳米管的制备 | 第22页 |
2.4.3 Cu_2O的制备 | 第22-23页 |
2.4.4 Cu_2O-TiO_2纳米管的性能分析 | 第23页 |
2.5 检测与分析 | 第23-26页 |
2.5.1 结构测试 | 第23页 |
2.5.2 形貌分析 | 第23-24页 |
2.5.3 紫外可见漫反射吸收测试 | 第24页 |
2.5.4 X射线光电子能谱分析 | 第24页 |
2.5.5 光催化性能测试 | 第24-26页 |
第3章 TiO_2纳米管的阳极氧化研究 | 第26-34页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 TiO_2纳米管的制备参数研究 | 第26-33页 |
3.2.1 环境温度对TiO_2纳米管微观形貌的影响 | 第26-27页 |
3.2.2 阳极氧化时间对TiO_2纳米管微观形貌的影响 | 第27-30页 |
3.2.3 电压对TiO_2纳米管微观形貌的影响 | 第30-32页 |
3.2.4 有机酸添加对TiO_2纳米管微观形貌的影响 | 第32-33页 |
3.3 本章小结 | 第33-34页 |
第4章 Cu-Ti-O纳米管的制备及其光催化性能研究 | 第34-42页 |
4.1 引言 | 第34页 |
4.2 Cu-Ti-O纳米管的制备表征及其光催化性能 | 第34-40页 |
4.2.1 Cu-Ti-O纳米管的微观形貌表征 | 第34-36页 |
4.2.2 Cu-Ti-O纳米管的XRD结构表征 | 第36-37页 |
4.2.3 Cu-Ti-O纳米管的紫外可见吸收光学性能表征 | 第37-38页 |
4.2.4 Cu-Ti-O纳米管的XPS成分表征 | 第38-40页 |
4.2.5 Cu-Ti-O纳米管的光催化性能 | 第40页 |
4.3 本章小结 | 第40-42页 |
第5章 Cu_2O-TiO_2纳米管的制备表征及其光催化性能 | 第42-61页 |
5.1 引言 | 第42页 |
5.2 Cu_2O-TiO_2纳米管的制备及表征 | 第42-59页 |
5.2.1 Cu氧化物沉积量对Cu_2O-TiO_2纳米管复合的性能的影响 | 第42-49页 |
5.2.1.1 微观形貌和EDX表征 | 第42-45页 |
5.2.1.2 XRD结构表征 | 第45页 |
5.2.1.3 紫外可见吸收光学性能表征 | 第45-46页 |
5.2.1.4 光催化性能 | 第46-49页 |
5.2.2 氧气含量对制备Cu_2O的影响及其与TiO_2纳米管复合的性能 | 第49-56页 |
5.2.2.1 XRD结构表征 | 第49-50页 |
5.2.2.2 XPS成分表征 | 第50-53页 |
5.2.2.3 TEM表征 | 第53-54页 |
5.2.2.4 紫外可见吸收光学性能表征 | 第54-55页 |
5.2.2.5 光催化性能 | 第55-56页 |
5.2.3 TiO_2退火温度对Cu_2O-TiO_2纳米管复合的性能的影响 | 第56-59页 |
5.2.3.1 微观形貌表征 | 第56-57页 |
5.2.3.2 XRD结构表征 | 第57-58页 |
5.2.3.3 紫外可见吸收光学性能表征 | 第58-59页 |
5.2.3.4 光催化性能 | 第59页 |
5.3 本章小结 | 第59-61页 |
结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-69页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第69-71页 |
致谢 | 第71页 |