| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 金刚石材料 | 第9-12页 |
| 1.2.1 金刚石的晶体结构 | 第9-10页 |
| 1.2.2 金刚石的性质 | 第10-11页 |
| 1.2.3 制备金刚石膜的方法 | 第11-12页 |
| 1.3 场致电子发射 | 第12-15页 |
| 1.3.1 场发射原理—电子发射与表面势垒 | 第12-13页 |
| 1.3.2 场发射方程—Fowler-Nordheim理论 | 第13页 |
| 1.3.3 场发射性能的影响因素 | 第13-14页 |
| 1.3.4 常用冷阴极场发射材料 | 第14-15页 |
| 1.4 金刚石膜的掺杂 | 第15-17页 |
| 1.5 离子注入技术 | 第17页 |
| 1.6 问题的提出及本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第19-23页 |
| 2.1 金刚石样品的制备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 基底预处理 | 第19页 |
| 2.1.2 制备微米金刚石膜 | 第19-20页 |
| 2.2 CU离子注入及退火工艺处理 | 第20-21页 |
| 2.3 测试方法 | 第21-23页 |
| 第三章 Cu离子注入及普通退火对金刚石膜微结构和场发射性能的影响 | 第23-41页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 结构、成分及形貌表征 | 第23-35页 |
| 3.2.1 离子注入理论模拟 | 第23-24页 |
| 3.2.2 扫描图谱分析（SEM） | 第24-26页 |
| 3.2.3 原子力图谱分析（AFM） | 第26-29页 |
| 3.2.4 掠射角X射线衍射图谱分析（GXRD） | 第29-30页 |
| 3.2.5 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第30-33页 |
| 3.2.6 拉曼光谱分析（Raman） | 第33-35页 |
| 3.3 金刚石的电学性能 | 第35-39页 |
| 3.3.1 霍尔效应分析（Hall） | 第35-36页 |
| 3.3.2 场发射性能分析（EFE） | 第36-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 Cu离子注入及快速退火对金刚石膜微结构和场发射性能的影响 | 第41-55页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 结构、成分及形貌表征 | 第41-51页 |
| 4.2.1 扫描图谱分析（SEM） | 第41-43页 |
| 4.2.2 原子力图谱分析（AFM） | 第43-46页 |
| 4.2.3 掠射角X射线衍射图谱分析（GXRD） | 第46-47页 |
| 4.2.4 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第47-50页 |
| 4.2.5 拉曼光谱分析（Raman） | 第50-51页 |
| 4.3 电学性能表征 | 第51-54页 |
| 4.3.1 霍尔效应分析（Hall） | 第51-52页 |
| 4.3.2 场发射性能分析（EFE） | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 攻读学位期间学术成果 | 第69页 |
