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磁控溅射法制备ZnO纳米薄膜及其光电特性研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-18页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 ZnO的基本结构和性质第11-13页
        1.2.1 ZnO的基本结构第11-12页
        1.2.2 ZnO的光学特性第12页
        1.2.3 ZnO的电学特性第12页
        1.2.4 ZnO的磁学特性第12-13页
    1.3 ZnO薄膜的研究进展第13-17页
        1.3.1 p型掺杂ZnO的研究进展第13-15页
        1.3.2 共掺杂ZnO的研究进展第15-17页
    1.4 本论文主要研究内容第17-18页
第二章 制备ZnO薄膜的工艺流程及表征方法第18-28页
    2.1 ZnO薄膜的制备方法第18-21页
        2.1.1 分子束外延第18页
        2.1.2 化学气相沉积(CVD)第18-19页
        2.1.3 溶胶-凝胶第19页
        2.1.4 磁控溅射法第19-20页
        2.1.5 脉冲激光沉积法第20-21页
    2.2 实验主要原料及工艺流程第21-24页
        2.2.1 实验方案第21页
        2.2.2 主要实验设备和化学试剂第21-22页
        2.2.3 主要工艺流程第22-24页
    2.3 样品的物相表征方法第24-26页
        2.3.1 X射线衍射仪(XRD)第24页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第24-25页
        2.3.3 X射线能量色散谱(EDS)第25页
        2.3.4 样品的光学性能测试第25页
        2.3.5 样品的电学性能测试第25-26页
    2.4 本章小结第26-28页
第三章 本征ZnO薄膜的制备及其表征第28-46页
    3.1 正交实验的设计第28-29页
    3.2 实验样品的物相表征及结果分析第29-37页
        3.2.1 XRD和SEM表征第29-34页
        3.2.2 正交实验结果分析第34-37页
    3.3 退火温度对ZnO薄膜的影响第37-41页
        3.3.1 不同退火温度下ZnO薄膜的表征第38-40页
        3.3.2 退火温度对ZnO薄膜光学性能的影响第40-41页
        3.3.3 退火温度对ZnO薄膜电学性能的影响第41页
    3.4 溅射功率对ZnO薄膜的影响第41-44页
        3.4.1 不同溅射功率条件下ZnO薄膜的表征第42-43页
        3.4.2 溅射功率对ZnO薄膜光学性能的影响第43-44页
        3.4.3 溅射功率对ZnO薄膜电学性能的影响第44页
    3.5 本章小结第44-46页
第四章 Co、Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其表征第46-60页
    4.1 Co掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究第46-50页
        4.1.1 Co掺杂ZnO薄膜的制备第46页
        4.1.2 Co掺杂ZnO薄膜的表征第46-49页
        4.1.3 Co掺杂ZnO薄膜的电学性能分析第49-50页
        4.1.4 Co掺杂ZnO薄膜的光学性能分析第50页
    4.2 Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究第50-54页
        4.2.1 Cu掺杂ZnO薄膜的制备第50-51页
        4.2.2 Cu掺杂ZnO薄膜的表征第51-53页
        4.2.3 Cu掺杂ZnO薄膜的电学性能分析第53-54页
        4.2.4 Cu掺杂ZnO薄膜的光学性能分析第54页
    4.3 Co、Cu共掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究第54-59页
        4.3.1 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的制备第54-55页
        4.3.2 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的表征第55-57页
        4.3.3 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的电学性能分析第57-58页
        4.3.4 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的光学性能分析第58-59页
    4.4 本章小结第59-60页
第五章 总结与展望第60-62页
    5.1 本文工作总结第60-61页
    5.2 今后工作展望第61-62页
参考文献第62-72页
攻读硕士学位期间取得的学术成果第72-74页
致谢第74页

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