摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 ZnO的基本结构和性质 | 第11-13页 |
1.2.1 ZnO的基本结构 | 第11-12页 |
1.2.2 ZnO的光学特性 | 第12页 |
1.2.3 ZnO的电学特性 | 第12页 |
1.2.4 ZnO的磁学特性 | 第12-13页 |
1.3 ZnO薄膜的研究进展 | 第13-17页 |
1.3.1 p型掺杂ZnO的研究进展 | 第13-15页 |
1.3.2 共掺杂ZnO的研究进展 | 第15-17页 |
1.4 本论文主要研究内容 | 第17-18页 |
第二章 制备ZnO薄膜的工艺流程及表征方法 | 第18-28页 |
2.1 ZnO薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
2.1.1 分子束外延 | 第18页 |
2.1.2 化学气相沉积(CVD) | 第18-19页 |
2.1.3 溶胶-凝胶 | 第19页 |
2.1.4 磁控溅射法 | 第19-20页 |
2.1.5 脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
2.2 实验主要原料及工艺流程 | 第21-24页 |
2.2.1 实验方案 | 第21页 |
2.2.2 主要实验设备和化学试剂 | 第21-22页 |
2.2.3 主要工艺流程 | 第22-24页 |
2.3 样品的物相表征方法 | 第24-26页 |
2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第24页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
2.3.3 X射线能量色散谱(EDS) | 第25页 |
2.3.4 样品的光学性能测试 | 第25页 |
2.3.5 样品的电学性能测试 | 第25-26页 |
2.4 本章小结 | 第26-28页 |
第三章 本征ZnO薄膜的制备及其表征 | 第28-46页 |
3.1 正交实验的设计 | 第28-29页 |
3.2 实验样品的物相表征及结果分析 | 第29-37页 |
3.2.1 XRD和SEM表征 | 第29-34页 |
3.2.2 正交实验结果分析 | 第34-37页 |
3.3 退火温度对ZnO薄膜的影响 | 第37-41页 |
3.3.1 不同退火温度下ZnO薄膜的表征 | 第38-40页 |
3.3.2 退火温度对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第40-41页 |
3.3.3 退火温度对ZnO薄膜电学性能的影响 | 第41页 |
3.4 溅射功率对ZnO薄膜的影响 | 第41-44页 |
3.4.1 不同溅射功率条件下ZnO薄膜的表征 | 第42-43页 |
3.4.2 溅射功率对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
3.4.3 溅射功率对ZnO薄膜电学性能的影响 | 第44页 |
3.5 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 Co、Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其表征 | 第46-60页 |
4.1 Co掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究 | 第46-50页 |
4.1.1 Co掺杂ZnO薄膜的制备 | 第46页 |
4.1.2 Co掺杂ZnO薄膜的表征 | 第46-49页 |
4.1.3 Co掺杂ZnO薄膜的电学性能分析 | 第49-50页 |
4.1.4 Co掺杂ZnO薄膜的光学性能分析 | 第50页 |
4.2 Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究 | 第50-54页 |
4.2.1 Cu掺杂ZnO薄膜的制备 | 第50-51页 |
4.2.2 Cu掺杂ZnO薄膜的表征 | 第51-53页 |
4.2.3 Cu掺杂ZnO薄膜的电学性能分析 | 第53-54页 |
4.2.4 Cu掺杂ZnO薄膜的光学性能分析 | 第54页 |
4.3 Co、Cu共掺杂ZnO薄膜的制备及其性能的研究 | 第54-59页 |
4.3.1 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的制备 | 第54-55页 |
4.3.2 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的表征 | 第55-57页 |
4.3.3 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的电学性能分析 | 第57-58页 |
4.3.4 Co-Cu共掺杂ZnO薄膜的光学性能分析 | 第58-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
5.1 本文工作总结 | 第60-61页 |
5.2 今后工作展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-72页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第72-74页 |
致谢 | 第74页 |