中文摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 文献综述 | 第9-26页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 蛋白质色谱技术 | 第10-11页 |
1.3 晶胶分离技术 | 第11-22页 |
1.3.1 晶胶基质的制备 | 第12-15页 |
1.3.1.1 晶胶制备的反应原理 | 第13-14页 |
1.3.1.2 晶胶制备的条件选择 | 第14-15页 |
1.3.2 晶胶材料的修饰 | 第15-18页 |
1.3.2.1 离子交换修饰 | 第16-17页 |
1.3.2.2 亲和修饰 | 第17-18页 |
1.3.2.3 疏水性修饰 | 第18页 |
1.3.2.4 其他修饰方法 | 第18页 |
1.3.3 晶胶材料的性质表征 | 第18-20页 |
1.3.3.1 晶胶材料的孔隙特征 | 第19页 |
1.3.3.2 晶胶材料的机械性能 | 第19-20页 |
1.3.4 晶胶色谱技术的应用 | 第20-21页 |
1.3.5 晶胶色谱介质存在的问题 | 第21-22页 |
1.4 空间排阻色谱 | 第22-25页 |
1.4.1 空间排阻色谱的概念 | 第22页 |
1.4.2 PEG对蛋白质的空间排阻作用 | 第22-23页 |
1.4.3 空间排阻色谱的研究进展 | 第23-25页 |
1.5 本文的主要研究内容 | 第25-26页 |
第二章 纳米粒子涂层的离子交换晶胶整体柱 | 第26-44页 |
2.1 引言 | 第26-27页 |
2.2 实验材料 | 第27-34页 |
2.2.1 实验试剂 | 第27-28页 |
2.2.2 实验仪器 | 第28页 |
2.2.3 聚甲基丙烯酸缩水甘油酯纳米粒子的制备 | 第28-29页 |
2.2.4 聚丙烯酰胺晶胶整体柱的制备 | 第29页 |
2.2.5 晶胶整体柱的纳米粒子涂层和二次修饰 | 第29-31页 |
2.2.6 pGMA纳米粒子和晶胶材料的表征 | 第31-33页 |
2.2.7 色谱 | 第33-34页 |
2.3 结果与讨论 | 第34-43页 |
2.3.1 纳米粒子和晶胶整体柱的表征 | 第34-40页 |
2.3.2 柱效 | 第40-41页 |
2.3.3 动态吸附容量 | 第41-43页 |
2.4 本章小结 | 第43-44页 |
第三章 接枝两性离子聚合物的晶胶介质及其空间排阻色谱性能 | 第44-64页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 实验材料 | 第45-47页 |
3.2.1 实验试剂 | 第45-46页 |
3.2.2 实验仪器 | 第46-47页 |
3.3 实验方法 | 第47-51页 |
3.3.1 羧酸甜菜碱甲基丙烯酸甲酯的合成 | 第47-48页 |
3.3.2 晶胶整体柱的制备和表面接枝 | 第48-50页 |
3.3.3 晶胶整体柱的表征 | 第50页 |
3.3.4 空间排阻色谱 | 第50-51页 |
3.4 结果与讨论 | 第51-63页 |
3.4.1 晶胶整体柱的性质表征 | 第51-54页 |
3.4.2 空间排阻色谱 | 第54-60页 |
3.4.3 选择性、重复使用性和机理分析 | 第60-63页 |
3.5 本章小结 | 第63-64页 |
第四章 结论与展望 | 第64-66页 |
4.1 研究结论 | 第64-65页 |
4.2 主要创新点 | 第65页 |
4.3 工作展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-78页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |